二手 KOKUSAI DD-853V #293615302 待售

KOKUSAI DD-853V
製造商
KOKUSAI
模型
DD-853V
ID: 293615302
晶圆大小: 4"
优质的: 2012
Vertical LPCVD Furnace, 4" 2012 vintage.
KOKUSAI DD-853V是一种先进级扩散炉,用于将元素插入和/或从包括硅和硅基材料在内的各种基板上或从基板上去除元素。多用途KOKUSAI DD 853V作为市场领先的扩散炉之一,服务于多种类型的单晶圆加工和先进的温度可编程应用。DD-853V配备了Direct N2 Implantation气箱模块,允许在高达550°C的温度下植入,过程之间最长冷却90秒。它还具有用户友好的触摸屏界面,可用于简单直接的命令,以及一系列可选的"附加"附件,如离子快门、高温绝缘板、多船显示器和标准SI阀。附加特性包括其高通量能力、高温耐久性、灵活配置和低化学活性炉壁。它还提供了一个先进的自动化系统,快速,可重现的设备配方和易于维护。集成的内部气体安全系统具有精确的气体溷合物和控制能力。紧凑的设计使得在许多不同的处理环境中定位设备具有灵活性,并使其同时适用于单晶片和多晶片工艺平台。与所有KOKUSAI产品一样,DD 853V旨在以最经济高效的方式提供最高的生产效率。KOKUSAI DD-853V是工业、汽车和消费品开发应用的理想选择,它允许用户级联多种配方来处理多种材料和基材,吞吐量快,拥有成本低。它也是多堆迭层和垂直集成电路等应用的理想选择,也是一些医疗应用的理想选择。对于扩散过程的总控制,KOKUSAI DD 853V可以配备先进的过程控制系统。这包括自动校准、快速热循环备份、自动流程操作监控和数据采集等功能,以及通过Internet进行远程监控和操作的能力。KOKSUAI支持DD-853V两年有限的制造商保修,并提供广泛的附加服务、产品修改、维护合同、高质量的备件和技术支持。一个研发版本的DD 853V也是可用的,它允许用户方便地执行定向实验。凭借其强大的性能和高精度的结果,KOKUSAI DD-853V是一个可靠的长期解决方桉,可满足任何注重预算的扩散处理需求。KOKUSAI DD具有创新的设计、结构化的模块化配置和令人印象深刻的先进功能,853V是寻求高效、高通量扩散炉满足其需求的企业的理想选择。
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