二手 KOKUSAI DD-853V #9284513 待售

製造商
KOKUSAI
模型
DD-853V
ID: 9284513
优质的: 2012
Vertical LPCVD furnace 2012 vintage.
KOKUSAI DD-853V是一种具有多种配件的扩散炉,以优化扩散过程。它是为广泛的半导体和MEMS硅片加工而设计的。它能够在氮气、氙气或形成气体的环境中从50°C到1400°C的温度控制。KOKUSAI DD 853V具有许多功能,可简化和改进扩散过程的质量,如温度自动控制、精确控制的计时器设置、多个样本量选项以及确保安全和准确性的自校准监控设备。DD-853V有一个强大的加热系统,可以快速加热和冷却时间。得益于高效的石英管和集成加热器,DD 853V能够在两分钟内达到1400°C,四分钟内冷却至约1100°C。石英管具有连续运行能力,额定运行8小时稳态。此外,高精度控制单元可在整个范围内提供± 1°C的温度稳定性。KOKUSAI DD-853V还提供了许多直观的配件来优化扩散过程。这些配件有助于进一步提高工艺质量,缩短周期时间。它们包括先进的两级移动冷却机、样品室提升工具和石英管提升资产。先进的两级移动冷却模式有助于快速冷却设备,从而减少在过程之间切换的时间。样品室提升系统可以方便地插入和移除所需的样品,确保样品不会意外滑出。石英管提升装置通过有效提升和倾斜石英管来帮助增强扩散过程,以确保样品的最佳定位以达到最佳扩散。KOKUSAI DD 853V拥有强大的石英管保护机器,具有内置的安全互锁功能,可确保不会将外部污染引入该工具。此外,DD-853V还具有增强的控制资产,可实现精确的设置,包括最高5个可编程温度、4个可编程计时器、多个警报和超温保护。总体而言,DD 853V是一个极好的扩散炉,具有许多强大的特性和附件,以简化和优化半导体和MEMS硅片的处理。其强大的加热模式提供了快速的加热和冷却循环,而其先进的安全系统则确保了最高质量的扩散过程。通过利用KOKUSAI DD-853V强大的防护设备、直观的配件和精确的控制设置,客户可以确保任何半导体处理任务的最高质量扩散结果。
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