二手 KOKUSAI Vertron III #9078066 待售

KOKUSAI Vertron III是一种扩散炉，专为各种材料的超高真空精密沉积而设计。这种通用、坚固的设备为半导体和MEMS设备制造的关键应用提供了可靠的性能。Vertron III（KV3）的温度范围为700 °C至1100 °C。它装有一个氧化锌壳安全罩，允许它在运行时保持超高真空气氛。这种特殊的屏蔽使其能够实现低污染水平和低颗粒计数，这对于高温和低温材料的沉积都是必要的。该系统还具有多种控制功能，如用于控制反应温度的高温度反应-质子-转运蛋白（RQT）单元，以及用于在一次操作中分别控制不同材料层和温度范围超过200 °C的多温区控制程序。该机器还包括一个高温溢流原子接收面板（OARP），能够在1100°C以上的温度下工作，从而有助于确保均匀的沉积结果。该工具还配备了自动晶圆运输装载机，可实现自动化装卸和低压供应资产，以过滤载气。此外，该型号还配备了自动沉积控制设备（ADCS），提供对薄膜厚度的精确控制，确保沉积过程稳定。还纳入了高精度、实时的测量系统，允许快速、精确和一致的结果。机器中还包括一个温度控制单元，在整个刀具上创建一个平衡良好的温度轮廓，并确保均匀的沉积结果。KOKUSAI Vertron III适用于超高真空系统，可在多种基板上生产金属和非金属涂层。它具有许多最先进的特点，使其能够生产高精度矿床，是寻求性能与质量完美结合的制造商的理想选择。