二手 CANON PLA 501 F #9265301 待售

CANON PLA 501 F是一种掩模对齐器，允许用户准确、快速地对齐和转移模式到半导体晶圆上。它是一种自动化的半导体掩模模式发生器，设计用于在将由各层材料组成的模式转移到晶片上时提供精确的对准。CANON PLA-501F可以处理范围广泛的晶圆尺寸，范围从5到200毫米圆晶圆。它还具有高分辨率的光学设备，能够产生准确和可重复的覆盖模式。此功能无需任何手动更正,最终将节省时间和成本。该机配备了数字定位系统，可实现精确对准，并自动注册多种模式。这个单元提供高精度的对准和校正模式到晶圆，减少了需要人工干预。该机器还具有一个宽广的曝光区域，允许用户同时产生多种模式。这减少了通常与传统手动蒙版对齐器关联的提前时间。该机配备了一个最大发射36mW紫外线照明的大功率激光二极管，它提供了极其精确和可重复的图样对晶片的曝光。此外,PLA 501F允许用户对一系列曝光进行编程,然后自动执行,从而确保一致的可靠结果。它的低振动机器，消除任何振动干扰的光学工具，当暴露图案到晶片。此外，机器还配备了内置电源，确保在整个曝光周期中平稳可靠地运行。总体而言，CANON PLA 501F是一种高效、可靠且易于使用的掩模对准器，在将图样传输到半导体晶片上时，可产生高精度和重复性。其先进的特性和设计使其成为任何半导体生产过程的宝贵工具。