二手 NANOMETRICS AFT 4000 #85006 待售
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ID: 85006
Film thickness and reflectivity system
Standard film types measured
Single layer films: Visible 500-50,000A; UV 25-500A
Double layer films: Visible Top Layer 100-30,000A; Bottom Layer 100-10,000A
Single layer thick films: Visible 4-75 microns
Reflectance: Visible 400-850nm
Oxide on poly: UV 150-10,000A
Oxide on metal: Visable 3,000-20,000A; UV 500-5,000 A.
NANOMETRICS AFT 4000是一种掩模和晶片检查设备,其设计目的是在将晶片暴露于危险化学品和后处理之前,准确、快速地评估有缺陷的掩模结构和晶片缺陷。此系统允许用户快速检查掩码或晶片是否有缺陷,并报告信息以供进一步调查。AFT 4000在检测和测量电介质中最小的缺陷方面提供了无与伦比的性能和高精度。该单元采用Quadra-Tech成像技术,可提供快速、高分辨率成像能力。这使NANOMETRICS AFT 4000能够在所检查的掩模或晶圆上生成掩模图样、图层和3D特征的卓越图像。机器还配备了独特的耦合蚀刻特征分析工具,可以检测介电和结构中的精细结构,它们之间的间距只有2到6 Lambda。此外,该工具还提供高级分析工具,如FTIR光谱学,使用户能够测量缺陷的精确物理和化学化合物特性。AFT 4000还配备了可选的诊断特征分析工具,使用户能够准确量化偏差的严重性。然后,此工具可帮助用户确定缺陷是否会影响最终产品的质量,或者是否是可以在后期处理中安全修复的假阳性。NANOMETRICS AFT 4000是一种极为先进的掩模和晶圆检测资产,旨在为用户提供在缺陷评估方面的最高精度和速度。它的高级成像和分析功能使用户能够轻松地检测和测量电介质中最小的缺陷,而其可选的诊断特征分析工具使用户能够在提交后处理之前准确识别和分析缺陷。
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