二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9355328 待售
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ID: 9355328
晶圆大小: 3"-8"
Film thickness measurement systems, 3"-8"
Films: Up to 3-layers
Wavelength range: 400 to 800 nm
Film thickness range:
Visible: 250Å to 20 μm
UV and visible: 40Å to 20 μm (Dependent on film type)
Reproducibility: < 1Å UV / 2Å (Visible)
Measurement time: 0.5-3 Sec/site
Data management: 2D and 3D Mapping / Diameter scan
Communication type: SECS II
Data export: ASCII
Optics: 4x, 10x, 15x (UV), 40x
Spot sizes: 50 / 20 / 18 (UV) / 5.5 μm
PC System with high capacity drives
LCD Screen
Tabletop components:
Optics stand
Monitor and keyboard
Mouse
Trackball and joystick
Control electronics (WxDxH):
14" x 24" x 28"
35.56 x 60.96 x 71.12 cm
Power supply: 117 ±5% VAC, 50/60 Hz, 5 A.
NANOMETRICS NanoSpec 6100是一种前沿掩模和晶圆检测设备,可帮助半导体制造商确保最高生产质量。该系统融合了高功率（100瓦）激光二极管、大视场相机以及一套先进的光学和图像处理算法。NanoSpec 6100可自动检查掩模表面和晶片表面小至3.5nm的缺陷特征,并能够快速检测光刻热点、颗粒、划痕和其他关键缺陷。NANOMETRICS NanoSpec 6100利用100瓦激光二极管将光投射到整个基板表面扫描的大型矩形视场中。该单元的光学器件设计为最大限度地减少失真和光散射，使其能够以高保真度检测亚波长缺陷和表面特征。通过图像分割算法对生成的图像进行实时分析，使缺陷得以识别和标记，以便进一步检查。NanoSpec 6100使用两种高级成像模式，提供最大的灵活性和鲁棒性。在RGB成像模式下，机器利用高分辨率彩色传感器检测掩模和晶片基板的缺陷。相比之下，在单波长成像模式下，单个激光波长用于对大小粒子、划痕、凹坑和其他缺陷进行基于阈值的检测。NANOMETRICS NanoSpec 6100还提供了高度的自动化和灵活性。大型触摸屏显示屏允许操作员轻松启动和停止检查、更改设置以及分析结果。此外,该工具的高速扫描能力和自动缺陷识别提供了无与伦比的吞吐量和性能。总体而言,NanoSpec 6100是一种出色的掩码和晶圆检查资产,可提供业界领先的性能。该模型具有高分辨率成像和强大的自动化算法，能够快速可靠地检测光刻缺陷和临界表面特征。它是实现现代半导体制造最高质量和产量水平的有力工具。
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