二手 NANOMETRICS NanoSpec 6100 #9372486 待售

NANOMETRICS NanoSpec 6100 Mask&Wafer Inspection设备是NANOMETRICS开发的一种高性能成像和光学计量工具,用于对高级设备特性进行高精度、高分辨率、扫描级别的评估。该系统利用了最新的光学显微镜、数字成像、测量软件和计算机控制技术，旨在快速获取、处理、分析和报告有关最复杂半导体器件的掩模和晶片结构的综合信息。NanoSpec 6100专为精确测量纳米级光学图样而设计,例如高亮度平板显示器（FPD）所需的光学图样。此单元使用专有的数字点自动对焦机,该机可执行快速、基于散焦的聚焦缝合,并具有高精度的实时测量结果。NANOMETRICS NanoSpec 6100报告工具包括功能强大的软件,它将多层数据组合到一个报告中。这包括高分辨率扫描级成像、逐层基于模型的成像、精细的对齐能力以及广泛的测量范围。此外,该工具还提供了多种自定义功能来验证测量结果,包括评估多层掩码对齐错误的影响和设计工艺优化计划的能力。NanoSpec 6100还能够通过其先进的多反射和反射丢失功能进行实时成像和检查。这些使资产能够快速提供大量的结果,并减少测量。此外,为了确保最高的测量精度,该模型配备了高灵敏度倾斜度和电平传感器,以减少可重复性误差。NANOMETRICS NanoSpec 6100包含高度灵活的软件体系结构,旨在与各种外部仪器连接。这包括但不限于X射线衍射、原子力显微镜、干涉仪和扫描电子显微镜的应用。此外,设备还包括一整套分析工具,如实验设计和多维曲线拟合。NanoSpec 6100 Mask和Wafer Inspection系统具有直观的用户界面、先进的扫描和计量功能,并且能够产生非常精确和可靠的结果,是快速准确地测量和分析高级设备模式的理想解决方桉。