二手 TEL / TOKYO ELECTRON ACT 8 #293610442 待售

製造商
TEL / TOKYO ELECTRON
模型
ACT 8
ID: 293610442
晶圆大小: 8"
优质的: 2004
(2) Coater / (2) Developer system, 8" Chiller Chemical box Power box Temperature and humidity controller Signal tower: (3) Lights Open cassette carrier Bake board type / Cooling board type: Proximity, Spacer Solvent supply method: Canister automatic switching, 10 L DEV Cup: PP+POM Modules: I/F ADH (3) TRS (3) CPL (6) LHP CWH WEE (4) STG DEV Nozzle: E2 Nozzle Rinse Back rinse 2004 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ACT 8是由世界领先的半导体製造设备製造商之一TEL所研发的光刻胶设备。该系统能够在晶片上创建电路和其他模式,分辨率为5 µm。它是一种多图样的光刻胶单元,可以在一次曝光中对多层进行图样化。TEL ACT 8具有较大的晶片容量,从12"到24",能够同时处理大量的基板。其先进的光学机器允许精确、均匀的图桉。其高速扫描仪可以比以前的型号移动基板更快、精度更高。它具有精确的等离子体给药技术,以更好的边缘放置精度,并能适应高速电弧编程的精确模式。TOKYO ELECTRON ACT 8工具也有出色的晶圆对准能力,得益于其先进的数值孔径资产。再者,晶片可以通过其内置的光学显微镜来更密切的检查,可以用来发现缺陷或观察基板表面。该模型还提供了低颗粒污染和严格的颗粒控制。它配备了自动扫描粒子探测器,以确保更清洁的环境,并监控设备中存在的粒子的大小和数量。与粒子探测器一起,系统还可以减少水分和清洁房间空气造成的污染量。此外,该装置还装有温度控制机,可确保产品加工的稳定环境,减少产品暴露过程中的热漂移。这一特点也最大限度地减少了薄膜收缩,提高了产量。TOKYO ELECTRON ACT 8工具是半导体工业中一些最先进的光致抗蚀剂工艺的理想解决方桉。其卓越的分辨率能力和对薄膜厚度的严格控制使其成为最可靠、最稳定的光刻胶系统之一。凭借先进的特性和能力,ACT 8资产是生产集成芯片中所有光刻胶需求的绝佳选择。
还没有评论