二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9383672 待售
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ID: 9383672
优质的: 1995
Coater / Developer system
COT
TCT
(3) DEV
WEE
Missing parts:
WEE VAC Solenoids and light guide set
DEV Spin motor driver
AC Power box
AC Control box
Tweezers for WAF Guide fixing screws
IAZ Axis driver
IRAθ Axis driver
Cup temperature and humidity machine:
Wiring pipe
Drain pan
Leak sensor for drain pan
1995 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一款设计用于半导体工业的自动化光刻设备。该系统用于在半导体材料中精确蚀刻图样。该单元由多个组件组成,这些组件共同操作光刻胶材料。第一个元件是光电子掩模对准器(Photoelectron Mask Aligner,PMA),负责将所需的图桉精确地放置在晶圆材料上。然后,PMA使用紫外线(UV)将图样传递到光刻胶上。这一步叫做'暴露'。第二个成分是化学加工站,负责除去光刻胶的暴露部分。这一步通常是通过在光致抗蚀剂上应用水基碱性溶液来完成的。这一过程被称为"发展"。第三个组分是自旋干燥器,用于在发育步骤后对材料进行干燥。此步骤可确保正确执行下一步蚀刻。第四个组件是蚀刻器,用于将所需的图桉蚀刻到材料中。根据要蚀刻的材料,这可以通过干蚀刻、湿蚀刻或等离子体蚀刻来完成。第五个元件是一个升降站,负责从蚀刻图桉中除去剩余的光刻胶。这通常是用一种化学升降剂来完成的,这种化学升降剂会破坏光致抗蚀剂和材料之间的化学键。第六个组件是一个对齐标记检查(AMI)站,用于检查蚀刻图桉的对齐精度。这样可以确保蚀刻的图桉符合设计规范。第七个成分是一个清洁站,用于从晶片材料中去除任何残留的光刻胶、化学剂或颗粒。这有助于确保半导体不受污染。最后,第八个部件是一个运输站,负责将晶圆材料移动到过程中的下一步。TEL Clean Track ACT 8是半导体制造过程中必不可少的组成部分,因为它能够精确准确地制造半导体材料。TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8通过将PMA、化学加工站、自旋干燥机、蚀刻机、升降站、AMI、清洁站、运输站组合成单机,简化了半导体材料的制造工艺。
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