二手 TEL / TOKYO ELECTRON Clean Track ACT 8 #9402762 待售
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ID: 9402762
优质的: 2013
(4) Coater / (4) Developer system
Type: Dual
Inline type
Right to left
RDS Pump
SH Nozzle
Open cassette
(3) Main controllers
(2) PHP
Does not include :
T and H
HDD
Missing parts:
COT:
Spin motor driver
Arm1 driver
Spin motor driver
Arm1 Up / Down sol valve
Spin motor driver
(2) TCT Coater cups
(2) PHP TC Control boards
(4) COT EBR Flow meters 30ml/min
(4) COT EBR Flow meters CCD Sensor PCS-1
IRA Z Unit kit XY-HRS 055ZM109
IRA Pincette, 8"
IRA Z IRA Z MU-D015 Axis motor driver
IRA X MU-M008 Axis motor assembly
IRA Y IRA Y M-ESA-LYA2AF8 Axis motor driver
IRA M-ESA-J1003AF9-20 Theta axis motor driver
WEE TKB2251 CCD Board
WEE SMC Vacuum solenoid
Chemical cabinet
HTK270-M Sub operation panel
2013 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON CLEan Track ACT 8是一款为半导体材料的清洁和表面制备而设计的光致抗蚀剂设备。它利用获得专利的机械臂组件自动将清洁液体直接分配到材料表面。然后将液体吸出，在表面留下均匀干净的涂层。TEL Clean Track ACT 8由控制器、数码相机、机械手臂和蒸气屏障系统组成。控制器提供了过程配方、设备安全性和可编程操作的接口。数码相机用于检测机械臂组件的运动，为精确清洁和涂层提供必要的反馈。机械手臂的设计提供平滑、精确的清洁液体运动。蒸气屏障单元的设计是为了尽量减少清洁过程中产生的挥发性烟雾的逸出。所有这些组件结合在一起，创造出一个完整可靠的光刻机。TOKYO ELECTRON CLEAN TRACK ACT 8配备了一个视觉子系统，使它能够准确地检测到人工检查过程中可能遗漏的材料缺陷。该工具还包括一个智能材料处理模块，可以轻松识别不同的材料并适当调整其参数。清洁过程是通过引入清洁液体，然后沉积光致抗蚀剂材料开始的。沉积过程使用短波紫外线光源进行，然后进行照片曝光和显影。在清洗和涂层过程之后，用水或适当的溶剂冲洗设备，以去除多余的光敏材料。Clean Track ACT 8是一种易于使用、可靠且具有成本效益的光刻胶资产,能够提供一致的清洁和涂层效果。它旨在简化半导体材料清洗和涂层的整个过程，使其成为寻求高效解决方桉的公司的理想选择。
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