二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #9026272 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7是一款为半导体器件制造中的最先进的应用而设计的光阻设备。该系统以场效应成像（Field Effect Imaging，FEI）光刻技术为基础，在硅基板上形成光阻薄膜，并使用电子柱有选择地暴露于光。光阻用狭窄的电子束照射，而电子束的强度被调制以产生由标线定义的二维图样图像。暴露于光束的光阻被选择性硬化，而未暴露的光阻则通过使用溶剂除去。重复此过程可创建设备制造所需的亚微米特性。TEL MARK7具有高级的打字功能,包括生产可持续到0.1微米（100纳米）的功能。因此，该装置非常适合亚微米级特征制造和高通量生产。该机器还具有高性能的曝光后烘烤（PEB）功能,能够在高达1000 °C （1832 °F）的温度下进行曝光后阵列。这对于高温过程如铝植入和钨沉积特别有用。TOKYO ELECTRON MARK-7还具有广泛的曝光和PEB工艺选项。调制传递函数（Modulation Transfer Function，MTF）是这些过程选项中的一个重要特征，它允许通过使用动态测量能力和高度线性的过程曲线来精确确定暴露剂量。提供板载校准,以减少用户的安装时间并提高吞吐量。TEL MARK-7的其他有用功能包括集成的自动对焦和再循环泵,以提高过程的可重复性,以及灵活的机器人就绪端效应器。易于使用的图形用户界面使用户能够轻松监控工具性能并设置自己的流程参数。对过程参数的准确监控意味着可以快速识别和纠正过程中的故障,从而降低产品污染和产量故障的风险。该资产具有高度可扩展性，可以根据不断增长的吞吐量要求添加配件，例如为加工化学品增加供应罐。它还具有温度均匀性选项,允许在整个暴露区域内保持均匀的基板温度。总之，TEL/TOKYO ELECTRON MARK-7模型是亚微米制造和高通量生产的理想解决方桉。它能够快速准确地创建低至0.1微米的精确功能,同时它的集成功能和用户友好的控制减少了设置时间并提高了可重复性。