二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9044020 待售
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ID: 9044020
Oxide etch system, 8"
Includes:
Process: 40 oxide
Software version: l4.70b
System power rating: 208VAC, 3 phase
Loading configuration: 2 cassette handler configuration
(2) MxP chambers
Model: MxP poly
Esc type: Electrostatic
1torr manometer: MKS 127aa-00001b
Chamber dry pump model and size: Ebara A30W
Loadlock dry pump model and size: Ebara A10S
Turbo pump model and size + controller: Alcatel ATH400M
Cathode chiller model: amat hx+150 CHX TC-300
Wall chiller model: AMAT0
EP system: monochrometer
Heater stack/gate valve: standard
RF generator model: ENI OEM-12B
RF match model: hybrid RF match
IHC manometer: 10 torr manometer
IHC mfc size: 20 sccm
High voltage module: sharing between chamber A/B
Remote components:
(2) Dry scrubber cabinets
AMAT 0 HX. Power rating: 208VAC, Chemicals used: Glycol.
(2) Neslab CHX chillers, Power rating: 208VAC, Chemicals used: Glycol
1992 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是半导体工业中为化学加工而设计的革命性反应堆。它是用化学气相沉积（CVD）设备建造的，该设备允许晶圆表面的各向同性干蚀刻，而无需湿法化学蚀刻。Mark II还拥有独特的双腔室设计，使它能够同时运行两个不同的过程--每个腔室一个。这提高了整个工艺周期的效率，同时提供了更高的产量和减少了周期时间。AMAT P5000 Mark II设有两个反作用室，每个反作用室气密，温度控制，由独立电源供电。此外，该室还具有高端惰性气氛，可进行多种工艺化学处理，包括氧气和基于等离子体的蚀刻。这些反应室由耐高温不锈钢构成，即使在极端的加工条件下也能保证优异的性能。此外，这些腔室能够容纳各种不同的感受器尺寸。应用材料P 5000 MARK II还为精确温度设置提供了先进的温度控制系统。该单元配有温度控制器、数据收集机以及用于过程控制的可编程逻辑控制器（PLC）。此外，P5000还提供多种安全功能，如燃气线路关闭开关和紧急停止按钮，以确保过程安全。在沉积技术方面，P 5000 MARK II提供了在750 nm至1.5微米范围内沉积薄膜的能力。它还提供了卓越的晶体质量、均匀性和可重复性，以及高温沉积环境，确保了优越的工艺控制和产量。此外,它还允许与低压化学气相沉积（LPCVD）和原子层沉积（ALD）工艺兼容。综上所述，P5000 Mark II是一个先进的半导体加工工具，拥有卓越的性能和过程控制。其独特的双室设计和先进的温度控制资产，使其成为许多不同类型的高性能工艺的理想选择。此外,它的灵活性和性能使其成为各种半导体生产环境中的最佳选择。
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