二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9411664 待售
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ID: 9411664
晶圆大小: 6"
Poly etcher, 6"
Hard Disk Drive (HDD) SDD Flash hard
Floppy Disk Dive (FDD), 3.5"
Storage elevator: 8-Slots
Cassette indexer: Standard clamp type
(3) Chambers
Process chamber: ABD, PE-TEOS
(3) Baratron gauges: MKS 627A, 20 Torr
(3) Chamber body: One hole chambers, 8"
Lid assembly, 8"
Standard robot blade
(3) ENI OEM 12B RF Generators
(3) Gas panels
NUPRO/FUJIKIN Pneumatic/Shut-off valve
(3) RF Matchers standard
(3) Slit valves standard
(3) Throttle valves, C-plug
(3) Susceptors P-chuck, 6-8"
(3) Process kits, 8"
Lift assembly
O-Ring
(42) Lamps
Mini controller
Remote AC Rack standard type
Remote AC Rack to MF cable, 55 feet
Remote monitor cable, 25 feet
Pump/Heat exchanger cable, 25 feet
AMAT-0 Heat exchanger
Heat exchanger water hose color flex, 55 feet
(3) TEOS Delivery line heaters
(3) TEOS G-Plis
LF 410A-EVD / IV-2410-02H
(2) HORIBA Z512 / GF 100
N2, (5) SLM / O2-s (3) SLM / He 5000 SCCM / C2F6 500 SCCM
(2) LCD Touch / Light pen monitors
(2) Monitor racks.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II是一种广泛使用的反应堆，设计用于处理先进半导体材料。该设备由一个工艺室、一个泵、一个加热器和一个气体控制系统组成，使其能够精确地实现广泛的工艺温度和气流。该工艺室由不锈钢制成，有两个8英寸的排气和泵线出口。气流由三条独立的气线控制，可配置用于各种压力和流量。腔室还配有一个工艺窗口，用于查看样品和控制晶圆运动。另一方面，加热器的设计是为了提供高均匀性和准确性，并在过程中保持稳定和精确的温度。它配有石英烤箱，比传统的加热器更精确地维持所需的温度。泵能提供很高的真空，能准确控制压力。泵的控制范围为0.1至10 Torr，具有水冷涡轮分子泵用于低真空操作。气体控制单元用于控制过程中的气体。它由质量流量控制器组成，这些控制器控制供应的气体量，开关和分流气体的阀门，以及控制压力的调节器。该机还配备了几项安全措施，如安全监视器和紧急停止开关。这样可以确保安全操作,并保护设备和用户免受任何危险情况的影响。总体而言，AMAT P5000 Mark II是一个可靠的工艺室，能够进行各种半导体工艺。它能够准确控制温度、压力和流量，并提供安全的工作环境。
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