二手 MRC 643 #9008358 待售

MRC 643是为薄膜沉积而设计的最先进的溅射设备。该系统采用强大的IAD（离子辅助沉积）法沉积厚度均匀、表面粗糙度低的薄膜。它的电源能够提供高达1000瓦的功率，并且可以产生各种类型的离子。643每面积可输送180毫安（mA）的电流，允许製造出较厚层的高性能薄膜。基板支架配有创新的加热器，确保溅射时均匀、最佳均匀沉积。MRC 643的多功能沉积组分允许沉积各种类型的薄膜，包括金属、硅酸盐和氧化物。该机组配有挖掘机、目标架和射频源，使用户可以在多种沉积参数中进行选择。本机可在1 mTorr（1 x 10^-3 Torr）至760 Torr之间运行，最大功率1000瓦。它还设计用于可靠和安全的操作，具有全面的安全协议，包括非接触式门关闭和紧急停止位置。该工具还具有出色的离子光学元件，可实现高性能沉积所需的精确和均匀的离子轰击。643还具有较高的自动化程度，使用户能够完全自动化基板温度、源功率、气流、压力等溅射参数。其他功能还包括数字控制台，确保操作方便和快速设置；用于监测薄膜沉积的薄膜显微镜；以及用于产生超高真空的多孔离子泵。MRC 643设计用于多种用途,包括各种尺寸、形状和材料的样品。也适用于广泛的薄膜沉积应用，如平板显示器、薄膜太阳能电池、薄膜电致发光器件等多种微纳米材料应用。总之，643溅射资产是生产均匀性和可重复性都很好的薄膜的理想工具。