二手 MRC 903A #9038716 待售

MRC 903A是一种溅射设备，设计用于薄膜沉积在薄膜应用的基板上。它具有多功能基座单元的高通量设计，包含一个可旋转的溅射头，以及一个大功率的射频和直流电源。RF电源用于驱动RF磁控管溅射枪，直流电源用于驱动密集的等离子体聚焦目标。溅射头在两个X-Y-Z方向上都可调节，在大面积上提供极好的均匀性。该系统采用双源真空室与两种材料同时溅射。双源腔室有两个独立的腔室，每个腔室都包含自己可旋转的溅射头。为基板的装卸提供了一个样锁室.903A还有一个可选的朗缪尔-布洛杰特槽，可用于沉积有序分子阵列。MRC 903A具有广泛的过程监控功能。气流计算机用于调节过程压力，监测溅射材料与Ar+的比例。该机组还配备了质谱仪，用于监测O2和N2等工艺气体，以及用于测量射频功率输出的晶体振荡器。还包括Peltier元素,用于样品的精确温度控制。903A是一种功能强大、用途广泛的溅射机，可用于金属、氮化物和氧化物薄膜的沉积。它是一种高通量的工具，具有出色的均匀性，高度可重复和可靠的过程控制，以及专门的安全和过程控制监控。有了可选的朗缪尔-布洛杰特槽，它非常适合广泛的介电、半导体和铁磁材料。