二手 ULTRA-T EQUIPMENT / UTE PSC 122M #9301030 待售

ID: 9301030
Photomask substrate cleaner.
ULTRA-T EQUIPMENT/UTE PSC 122M Wafer&Mask Scrubber是一种多功能设备,设计用于半导体制造过程中晶圆和Mask的精密清洁。该机器具有高通量的自动化设备,能够同时快速擦洗最多6个300 mm晶片或口罩,从而获得卓越的清洁效果。洗涤过程在一个卧式机柜中进行,该机柜在舒适、符合人体工程学要求的环境中安全地固定晶片或面罩。该单元配备了可调节的刷高、振动频率和温度范围,允许精细控制洗涤参数。内置的空气幕有助于防止空气中的颗粒进入橱柜,并为晶圆和口罩提供更好的清洁环境。擦洗过程由控制系统管理,该系统可自动执行操作,包括机器循环、擦刷速度、温度和触摸计数。此外,它还允许对不同的清洁周期进行编程,以满足晶圆和掩模制造过程所需的特定清洁参数。用户友好的界面、内置内存和可编程循环功能使操作员在需要时可以方便地快速调整机器的设置和参数设置。该单元还设有内置的监控报警机,可以用各种参数和阈值进行编程,包括晶圆温度、刷压、振动频率和循环时间。这些参数可以轻松调整,以优化洗涤工艺,防止任何潜在的安全问题。UTE PSC 122M Wafer&Mask Scrubber是为了满足最苛刻的半导体制造要求而设计的,是精确高效的晶圆和Mask洗涤的理想选择。先进的设计、高通量工具和强大的功能使其成为任何现代化生产设施的绝佳选择。
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