二手 ASML AT-605 #9379125 待售

ASML AT-605是一种晶片步进器，使用先进的扫描狭缝投影对准设备，以确保在使用光刻技术定义特征时，半导体晶片被精确曝光。该系统由一个由电动执行器固定到位的5级可移动掩模和一个照亮、对准和暴露晶片表面的精密光学单元组成。该机器设计为在精确的公差范围内提供整个半导体晶片的精确、快速和可重复的曝光。AT-605在石英面罩上具有95mm x 95mm的精密镀铬,并具有0.2微米的分度孔径精度。投影光学工具提供0.4微米的映射精度，保持公差0.22微米。该资产可以达到每小时高达1300万晶圆的晶圆吞吐量，使其成为一种非常有效和高效的生产工具。ASML AT-605包含一个图像捕获模型,该模型能够快速、精确地对齐晶圆表面。该设备由两个CCD摄像机、一个激光对准光束和一个投影成像系统组成。CCD照相机捕捉晶片表面的图像，而激光对准光束则用来监视晶片位置的变化。这样可以确保晶片在正确的方向上精确暴露。然后投影成像单元将曝光的图像映射到掩模上。该机配备了一系列设计直观、用户友好的功能。其中包括图形用户界面、自动掩码居中功能以及可编程聚焦和曝光控制。该工具还支持数据输入,例如材料厚度、曝光持续时间和曝光指数。AT-605提供了一个操作资产的便利，自动组装和对齐。该模型还提供了各种光刻模型的访问权限，包括任何时候最多五种。最后，ASML AT-605具有高度的通用性，因为它可以用来处理各种各样的晶圆几何形状，从正方形到圆形和不规则形状。