二手 TEL / TOKYO ELECTRON MARK Vz #9134876 待售

TEL/TOKYO ELECTRON MARK Vz是光刻胶的非接触式曝光设备。它是一个完全集成和自动化的系统，结合了曝光、对齐、数据记录和晶圆处理过程。该装置提供高通量，设计用于生产复杂和高度详细的微观结构，如用于光刻的极紫外线（EUV）光掩模。TEL MARK-VZ配备了基于激光的投影机。它采用超高密度、高带宽、多点激光器来实现高速、精确的曝光。投影工具允许高分辨率和均匀性的大晶圆直径曝光。此外,它还具有独特的高度精确的可变光斑大小模式,允许在投影过程中改变激光束光斑大小,从而优化性能。这种资产支持各种各样的光掩模，包括不透明、透射和衍射掩模，并且可以产生广泛的结构，从小到大的图桉。该型号还配备了用于定位和定向的晶圆级。晶片级利用双轴、高精度对准和旋转设备进行晶片加载、对准和曝光。系统能够扫描晶片边缘并在曝光前预先对准晶片。该单元的精度和高速旋转保证了精确准确的曝光。TOKYO ELECTRON MARK V-Z基于激光的非接触式曝光最大限度地提高了机器的吞吐量，集成的晶圆处理器和扫描工具有助于减少晶圆的损伤和污染。此外,资产还具有一个内建的数据记录模型,用于跟踪每个晶圆的曝光历史记录。这些数据可用于质量控制和质量保证目的。当光刻胶需要可靠、高精度的曝光设备时，TEL MARK Vz是一个极好的选择。它能够产生错综复杂、高度详细的微观结构，而且失真最小。此外，它是可调的，运行效率高，并产生一致的结果。TEL MARK V-Z专为工业级生产光掩模而设计，满足最苛刻应用的需求。