二手 KOKUSAI Vertron III #135994 待售

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ID: 135994
晶圆大小: 8"
优质的: 1999
Vertical diffusion furnace / LPCVD / Poly CVD furnace, 8" Process applications: Dry-Ox, Wet-Ox, NO(N2O)-Anneal, Well Diffusion, N2(Ar, H2)-Anneal, PH3-Anneal, Doped/Undoped-Poly-Si, Doped/Undoped-SiGe-Poly, Si3N4, TEOS, HTO Accommodates: 5 wafers simultaneously Automatic filler dummy wafer supply by wafer detection mechanism SEMI standard compliant I/O stage Supports SMIF interface GUI tube controller (CX3000 series) SECS / GEM compatibility 1999 vintage.
KOKUSAI Vertron III是用于半导体材料生长和热处理的扩散炉及相关配件。Vertron III由KOKUSAI Electric制造,在研发和生产应用中的性能和可靠性而闻名。KOKUSAI Vertron III是一种单晶圆炉,能够扩散300°C至1100°C的温度。该设备的核心是石英页岩,它装有一个自动石墨敏感器,能够安装直径不超过8英寸的基板。使用长寿命卤素灯照亮集成相机,用于监测工艺均匀性,可针对不同尺寸的基板进行调节。石墨和SiC加热线圈用于在腔内提供必要的加热和冷却速率。Vertron III有一个直观的控制器接口,包含一系列强大的操作和显示功能。系统包括可调节的气流控制以及手动泵控制等功能,允许用户定制流程以满足其确切的规格要求。此外,还可以轻松生成多达100个步骤的流程报告,从而全面概述每个流程运行情况。所包含的软件旨在监测和控制多个参数,如温度和炉压,以确保过程的可重复性。用户还可以配置各种流程配方,以自动执行流程并将其存储以备将来使用。安全功能也包括在内,如过度温度保护、强制气体关闭和真空泵,如果腔室内的压力超过指定的水平,它们会自动关闭。为确保质量和长期性能,KOKUSAI Vertron III配备了高压鼓风机,有助于减少部件上的氧化,并配备了有助于防止过热的水冷装置。炉子和配件由AI控制的自动诊断机器作为后盾,旨在识别任何维护问题,并在需要维护时向用户发出警报。还可以进行其他升级,以增加处理步骤的数量、提高工具的准确性并缩短维护时间。总体而言,KOKUSAI Electric的Vertron III是在半导体生产和研发应用中需要可靠性和性能的绝佳选择。KOKUSAI Vertron III具有广泛的处理温度和设置、直观的用户界面以及全面的工艺和安全功能,是满足任何扩散炉需求的理想解决方桉。
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