二手 ADIXEN AMS 110 #9200290 待售
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ID: 9200290
晶圆大小: 4"-6"
优质的: 2007
DRIE Etcher, 4"-6"
ICP Etching system for silicon
Includes:
Vacuum pumps, chiller
Process chamber:
Bosch licence
Substrate holder in ESC finger clamping version+LAUDA Chiller type RK8CP
Wafer centering kit
Source power supply: 3 kW RF
Bias power supply: 300 W LF
Chamber primary pump: ADIXEN Dry pump (ADP 122)
Chamber maglev turbo molecular pump: ADIXEN ATH 1600 MT
DN 200 Throttle valve VAT 61 series
Gas lines:
SF6/1000 sccm
C4F8/400 sccm
O2/200 sccm
Load-lock:
Single wafer manual vacuum load lock including:
One cover (Aluminium and plexiglass)
Manual wafer transfer arm: Load-lock and process chamber
Control module:
Allen bradley PLC and industrial PC with its UPS
User interface: Windows 2000
Separate electrical cabinet including main control panel
RF/LF generators and PLC
AMS 100 system is delivered with 10m cable:
Electrical cabinet
Process module
Documentation:
Users / Maintenance manual on CD-ROM and PC hard disk
Electrical schematics on standard paper
Components manual on CD-ROM
Options:
Basic structure:
Heated liner installed in source chamber
Automatic load lock
Pumping station: Heated valve VAT 65 series and by-pass valve
End point detection:
Digilem 200: IR (905nm) Camera
Substrate holder 100 mm kit: 4" Additional ESC pin
2007 vintage.
ADIXEN AMS 110 蚀刻器/asher是一种先进的热处理系统,专为各种蚀刻和灰化应用而设计。它具有气体输送、温度控制和飞行物理能力的高性能组合,是最具挑战性的蚀刻和灰化过程的理想工具。AMS 110凭借其先进的高性能惰性气体喷嘴和温度控制,提供了卓越的蚀刻和灰度处理效果,具有快速、可重复的处理效果。蚀刻器/asher的模块化设计允许根据用户的特定需求进行多种配置。该系统提供多达四个独立的气体控制通道，允许用户同时处理多种气体。每个通道都有独立的流量和温度控制，允许用户优化过程结果。另外,可以同时处理多个目标,允许多个用户并行处理许多相似的部件或许多不同的部件。ADIXEN AMS 110所采用的创新飞行物理技术有助于塑造等离子体并均匀地覆盖目标，从而在处理过程中实现均匀性和可重复性。蚀刻器/asher还配备了可选的高电流（最高100安培）ICP电源，用于需要更高精度的蚀刻和灰化应用。用户友好的界面通过直观的图形编程界面提供对蚀刻器/asher的精确控制,以便于设置。AMS 110的软件还包括许多高级功能，如过程监测、自动气体交换和基于配方的生产。用户还可以设置多个分层用户级别,从而允许每个用户访问所需的特定功能。总体而言,ADIXEN AMS 110 蚀刻器/asher是一个创新的系统,旨在提供高性能、可重复的蚀刻和灰度处理结果,同时满足多个用户的广泛需求。它结合了温度控制、气体输送和飞行物理功能,使其成为最具挑战性的蚀刻和灰化过程的理想工具。
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