二手 VACTRONIC 2000-M #161821 待售

ID: 161821
PECVD Plasma etch tool Nupro shut offs Tylan Range 500SCCM Vacuum & Temperature Control Panel Mass Flow Controller Vac. General CMLA-11 4-Flo-Master FM-2001 RF5S RF Plasma Controller 2-Vacuum Chambers (9”OD, 7 ¾ “ID @ 8 1/4/”deep) MDC Conflats with glass and KF vacuum ports.
VACTRONIC™ VACTRONIC 2000-M 蚀刻器/asher是一种多功能、高性能的机器,专为半导体基板的蚀刻和灰化而设计。它利用物理溅射和化学蚀刻相结合,在广泛的材料中创造出表面图样,包括铝、硅、陶瓷、砷化​​氙和多晶硅。该机设有模块化蚀刻室、冷却设备,以及允许精确控制蚀刻参数的气体输送系统。VACTRONIC™ 2000-M蚀刻室采用不锈钢结构,密封,确保安全有效运行。腔室内有一个独特的喷嘴单元,它以蒸汽或气体形式向基板提供均匀分布的蚀刻剂。气体输送机具有先进的阀门和计量装置工具,可以精确控制蚀刻气体的流动。该资产还具有真空辅助气体输送模型,以确保蚀刻后不会浪费蚀刻气体或将其留在室内。VACTRONIC 2000-M VACTRONIC™冷却设备在蚀刻室内提供均匀的温度分布。这样可以精确控制蚀刻过程,确保基板被准确和一致地蚀刻。冷却系统还有助于将蚀刻过程中产生的热量降至最低。该机器的多功能设计使其能够用于垂直和水平蚀刻应用。气体输送单元和蚀刻参数可确保跨蚀刻的准确性和可重复性,从而提高产量和吞吐量。模块化设计使安装和操作更加方便。VACTRONIC™ 2000-M 蚀刻器/asher是蚀刻各种材料的理想选择,从铝和硅到砷化氙和多晶硅。它采用模块化结构,便于安装和操作,先进的气体输送和冷却系统能够精确控制蚀刻参数,确保准确性和可重复性。该机还能够产生适合各种应用的高分辨率蚀刻图样,使其成为基材蚀刻和灰化的理想选择。
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