二手 NITTO UM 810 #9150884 待售

NITTO UM-810 Exposure Equipment是用于制造集成电路的最先进的光刻工具。这个系统使用波长为193nm的氟化氙（ArF）准分子激光器，在半导体基板上产生极小的图样和特征。该单元包括两个组件：高级曝光光学器件和机械手机器人.先进的光学器件是由一个能源--准分子激光--这是光学放大传递15mJ/pulse。这与精密的遮罩对准器和光学图像投影机相结合，在晶片上创建的极小特征只有0.25米μ线宽或更小。光学元件包括用于对齐精度和迭加的像素级控制的"pinset"。这不仅使芯片制造商能够将掩模图桉精确投影到晶片上，而且还可以消除掩模不对齐和其他像差。机器人负责晶圆的定位和对准，并配有力控对准工具，以提高精度。机器人是一种完全自主的4轴资产，能够以0.5 μ m的位置精度移动，使其能够精确地将基板重新定位或对齐到掩模上。机器人的高分辨率传感器使其能够检测和纠正对准误差,同时将边缘放置误差降低到1 μ m或更高。这些特性和组件使UM-810曝光模型成为集成电路制造的高效、精确的工具。使用波长为193nm的设备，能够在半导体材料上创造极小的特征，同时通过机器人非常精确而严密的公差控制提供卓越的可靠性和准确性。该系统还使芯片制造商能够轻松调整掩模图样的覆盖,这是创建复杂且非常小的图样的基石,其"针脚集"允许像素级控制对齐精度和覆盖。这将提高产量和成本效益,从而使NITTO UM-810暴露单元成为现代集成电路制造过程中的宝贵工具。