二手 ORC HMW-615N-4 #9138204 待售

ORC HMW-615N-4是一种强大而高效的曝光设备,设计用于各种光刻工艺。该系统配备了HeNe 515 nm激光源，使曝光范围从0.5 μ m到6 μ m不等。此外，该装置能够提供高达800 W/cm2的输出功率，并且能够使用微米刻度进行高精度对准。机器的激光源极其可靠和准确，在保持卓越质量的同时实现了高吞吐量。此外，激光源还配备了波长和带宽调节功能，为用户提供了极大的灵活性，并允许在各种光刻过程中操作曝光工具。该资产配有一个有源光学模块（AOM），允许模型的精确对准和基板的观察位置的精确调整。此外，设备可以配备手动或电动舞台，以便于基板定位，由操纵杆或计算机控制精确控制。此外，激光源可以使用微米尺度精确对准。在安全性方面，ORC HW-615N-4配备了几个安全特性。其中包括背压传感器、紧急关闭开关、紧急停止按钮、排气过滤器以及用于防止过热积聚的紧急冷却风扇。在使用方面，该系统提供了广泛的应用，使其非常适合半导体工业中的光刻工艺。它还非常方便用户,能够提供各种易于理解的调整选项和预设,这些选项和预设可以快速配置以满足用户的需求。HMW-615N-4是一个小巧且经济实惠的曝光单元,具有令人印象深刻的一系列特性,非常适合光刻工艺。其可靠的性能、可调节的设置和安全特性使其成为半导体行业高通量工艺的理想选择。