二手 CANON MPA 3000W #9195378 待售

CANON MPA 3000W Mask Aligner是一种高精度、全自动的晶圆级阵列半导体制造设备。它能够成像小至1微米的特征大小，非常适合生产高度复杂的微处理器、显示面板和其他设备。该系统独特的光学设计包括一个专门的光学透镜，它允许最大的照明效率和使细特征计量成为可能。CANON MPA-3000 W异常稳定，在10至30°C的热工作范围内工作，最大吞吐量为每小时4,000晶圆。为了确保均匀曝光并减少后滑动和耀斑，MPA 3000W的关键部件被封闭在其N2-enclosed成像室内。接近和聚焦检测传感器在曝光期间监视掩模和晶片之间的间隙,从而实现精确的对准。其离子泵真空室通过在光掩模和晶圆之间的区域产生真空，进一步提高了MPA-3000 W的精度。这种真空防止了晶片表面上不希望的吸氧，确保了晶片上的均匀曝光。CANON MPA 3000W通过使用自动校准机构优化掩模对准装置,可以补偿曝光期间的几何变形和温度变化。这有助于减少工艺变化并提高工艺稳定性。Wafer Changer还有助于减少后滑动和站立，其自动化的Wafer Transport Mechanism确保了晶圆的平稳和安全处理。此外,CANON MPA-3000 W的高级X射线光源确保光束大小一致,允许均匀的曝光参数。为了确保可重复和可靠的结果,MPA 3000W采用了一些高级功能。其单发压缩和均匀曝光参数技术有助于最小化驻波和阴影效应，而其先进的曝光源则提供了整个晶圆的均匀剂量分布。它的故障检测模式还监视曝光过程,从而能够快速高效地检测可能出现的任何问题。MPA-3000 W是制造高精度微处理器、显示面板和其他设备的理想机器。凭借其先进的光学和触发技术,佳能MPA 3000W确保了可重复的结果和一致的高吞吐量。