二手 CANON PLA 501 #9198592 待售

CANON PLA 501是用于生产微电子器件的光刻工艺的精密掩模对准器。这种掩模对准器具有快速的扫描速率和高精度，允许对集成电路晶片进行精确的光刻。它的曝光波长为248nm，可以很容易地为其他波长配置。光学设备设计为提供稳定的聚焦和成像性能。佳能PLA-501的居住面积为4英寸，分辨率为0.2微米。对准和光刻精度保持在0.1微米。扫描模式包括单场、长场和固定场扫描。该对齐器可通过专利模式匹配系统进行优化。曝光头可实现步进控制,并提供卓越的性能。它具有高达每分钟50个周期的高速处理能力，空中图像SNR优于40 dB的高质量处理。可选的基板平移阶段单元允许在不同的曝光之间快速变化,从而实现高精度的高吞吐量。口罩对准器配有温控机，以稳定温度长时间曝光。精确的温度和湿度控制可以提高曝光率,并始终保持最高的精度。PLA 501还提供液晶、LED等FPD（平板显示器）系统，比其他显示技术更高效、重量更轻。这种对准工具还能够减少高反射性表面的反射和/或气泡引起的失真。驱动掩码对齐器PLA-501强大软件提供了对资产设置和参数的用户友好控制。此外，该车型还配备了广泛的先进功能，以满足大批量生产的要求。总体而言,CANON PLA 501是一款可靠的掩码对齐器,可靠且易于使用。具有高精度生产高质量集成电路的能力.这种先进的光刻工具是生产显示面板、半导体和微电子器件的理想选择。