二手 SVG / PERKIN ELMER / ASML M 761 #9072094 待售

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SVG / PERKIN ELMER / ASML M 761
已售出
ID: 9072094
晶圆大小: 6"
Mask aligner, 6" Wafer type: Semi flat Cassettes: Fluoroware Version dash -003 Auto-fine-alignment (AFA) Automatic variable magnification (AVM) Alarm and signal tower Auto-uniformity-slit Helium management system (HMS) Aim system Motorized carousel arm with enhanced control option Pick and place wafer transport system (PAL) Mini-mag strong shell Hardware options: Aim Computer Type: Pentium (Y2K Compliance) Power Supply: 230 Vac, 50 Hz, 1 Phase Fan-coil-unit (FCU): Inlet Air Automation: Optional.
SVG/PERKIN ELMER/ASML M 761是一种掩模对齐器,用来製造精确、高精度的光掩模用于微电子器件的生产。它是由几个模块和组件组成的设备:掩模对准表、曝光系统、光源和多轴控制单元。蒙版对齐表的设计提供了一个可以针对X-Y和亚微米Z轴运动进行精确调整的坚实平台。它还提供了一定程度的掩模放置精度,这对于产生高质量的光掩模至关重要。对齐表能够在对齐过程中同时携带蒙版和晶片。曝光机由可移动光学器件、光源和真空密封室组成。该工具的光学器件用于将掩模的电子图样精确投影到晶片上。SVG M 761的光源是超高功率氙灯,为小规模图桉的曝光提供明亮照明。真空密封室将曝光资产光学器件封闭起来,以确保曝光不会受到环境中灰尘或污染物的污染。多轴控制模型允许对齐器和曝光设备在各个方向无缝移动。此外,控制系统还包括一个计算机界面,可方便用户地操作设备。该机具有精确监控和控制掩模与晶片对准的能力,精度为亚微米分辨率。这些特性的结合使得ASML M 761成为制造用于微电子器件生产的高级口罩的必要工具。它能够以最小的浪费和最大的效率生产高质量的光掩模。PERKIN ELMER M 761还提供了高度的定制和适应性。它与多种光源、曝光时间、遮罩尺寸兼容,几乎适合任何应用。M 761具有易用性和高性能,是目前最可靠和最可靠的掩模对齐器之一。
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