二手 LEICA / VISTEC INS 3000 DUV #9000424 待售

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LEICA / VISTEC INS 3000 DUV
已售出
ID: 9000424
晶圆大小: 4"-8"
优质的: 2003
Defect inspection system, 4"-8" Power console with emergency off switch Signal tower Intermediate tube with camera port Microscope: 5x, 20x, 50x, 100x, 150x(1), 150x(2) Operator console with trackball and joystick (ASCII keyboard underneath) Observation tube with eyepieces X-Y stage Motorized beamsplitter LCD monitor Cassette port with tilting mechanism Control electronics Transport wheels Contamination protection Prealignment: Contact-free, ± 0.25° rotational < ± 50 micron in x and y Macro defect control: Optional wobbler with illumination device User interface: Windows NT based inspection Interface: RS 232-SECS 1/2, Ethernet interface DUV Function: Not setup Does not include: Macro defect control, wobbler with illumination device 2003 vintage.
LEICA/VISTEC INS 3000 DUV是一种面罩和晶圆检验设备。其成像面积为13.44 x 13.44微米,用9 nm深紫外线(DUV)激光扫描。该系统能够检测小至激光波长十分之一的缺陷,并提供高达每小时2个晶圆的最大检测吞吐量。该单元还可以检查高达6 x 6nm特征的多层高分辨率模式。该检测机设计用于半导体掩模层的缺陷审查、编辑、缺陷分级和关键过程检测。该工具包括一个软件套件,便于图像采集、图像处理和缺陷检测。软件提供用户可控参数,用于自动缺陷识别和缺陷编辑,以及支持自动掩码检查,以及带有自动配方生成的晶圆检查。该资产拥有高达350165nm的视野,可利用其高分辨率导航模型提供激光视野面积2倍的视野。它配备了先进的成像软件,为采集、编辑、分级和缺陷概述提供时序和同步。设备还采用可变激光功率来加快操作速度,减少误报。该系统具有强大的功能集,以确保能够满足各种检查要求。其高性能光学器件允许精确的缺陷检测和特征表征到纳米水平。它配备了一个强大的可调参数单元,用于自动和手动缺陷审查和特征识别。机器还包括先进的图像处理算法来过滤、增强和调整对比度和亮度。其多层扫描能力是多级检查的理想选择。最后,LEICA INS 3000 DUV采用稳定、低维护和经济高效的体系结构进行设计,以实现可靠的运行。它的多个图形用户界面选项和故障安全工具设计为用户提供了便利和鲁棒性。VISTEC INS 3000 DUV的所有这些特点及其先进的掩模和晶片检测资产使其成为掩模和晶片检测的绝佳选择。
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