二手 RIBER 49 #9193092 待售

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製造商
RIBER
模型
49
ID: 9193092
晶圆大小: 10"
优质的: 2001
MBE System, 10" (10) Ports Recovery module: Hg Temperature range: 0-700°C No cracker Main chamber: (2) CT-10 Cryopumps With LN2 baffles Large ion pump Wafer manipulator RHEED: Gun Screen Transfer / Loadlocks: Transfer chamber with outgas stage (2) Loadlocks with cryopumps Sources: (3) Installed (2) Additional (CdTe, Te, In, and Hg) 2001 vintage.
分子束外延(MBE)是真空沉积过程的一种,用于制造具有精确层材料的薄膜。RIBER 49是一种MBE设备,用于沉积半导体元素、合金和化合物,如砷化氙、磷化铵和氮化​​的,用于光电元件。49使用闭腔源,容纳两个电子束蒸发器和三个不同的积液电池的出口。两个电子束源用于沉积具有高气压的金属和其他材料,三个积液池各用于单个成分的沉积。该系统还包括离子源、石英晶体厚度监测器、样品加热级和残留气体监测器。此外,RIBER 49还可以连接到光谱仪,以确定被沉积物质的组成。49使用磁助光束单元将材料指向基板表面。磁铁用于减少光束的扩散,让使用者控制沉积膜的组成和厚度。材料加热蒸发,基板加热,减少沉积膜中的缺陷数量。一旦材料沉积到基板上,层的厚度由石英晶体厚度监测器控制。这台仪器使用石英晶体监测光束下方基板的振荡,调节沉积在基板上的材料量。基板也可以利用样品加热阶段来操纵,这使得基板可以在腔室中再次倾斜、移动和倾斜,以便对材料进行精确沉积。一旦物料妥善沉积,残留气体监测仪可用于检查沉积室中外来颗粒的污染程度。这样可确保只沉积所需的层,并从最终产品中消除任何缺陷。RIBER 49是一台先进的精密MBE机器,主要用于制造半导体元件以及具有精密层的光电器件。它可以方便地沉积金属和非金属材料,能够量化材料成分和层厚,是生产优质光电零件的理想选择。
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