二手 VG SEMICON / OXFORD V90 #9200463 待售

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ID: 9200463
MBE System Includes: (10) Effusion cells / Effusion ovens Phosphorous / Arsenic crackers Pressure gauges Power sources Pumps Controllers Wafer Configuration: (3) 2" / 3" Automatic loading and transfer Pump system upgraded 1999-2000 vintage.
VG SEMICON/OXFORD V 90是专门为生产集成电路、光电元件和其他复杂纳米结构材料而量身定制的分子束外延设备。该系统具有高增长率、极低温度和精确控制生长参数的能力。它可以承受长时间的运行,而且维护要求极低。该单元包含一个超高真空室、一个源室、一个样本室和一条梁线。超高真空室允许金属和其他材料在10-9至10-10 Torr范围内的极低真空压力下沉积。机器的源室末端装有枪,或称源,将被沉积的材料雾化,然后弹射到主室。样品室包含加热的硅片,它被放置在光束线以下的支架上,是目标基板。使用高压动力监视枪测量入射到样品支架上的分子束。然后可以精确调整支架的位置和梁的角度,从而确保样品表面的均匀覆盖。然后通过一系列的挡板对梁进行衰减,这些挡板优化了被沉积材料的生长速率。该工具还能够创建高长宽比结构,包括对生产先进电路和光电元件具有重要意义的vias和其他各种结构。这是通过采用三种不同的生长技术来实现的:层转移、调制外延和原子层沉积。层转移涉及将层从生长基板转移到要阵列化的基板上。这是通过施加局部电场来完成的,该电场将材料从生长基板提升到目标基板。调制外延确保每一层由单独的原子组成,消除任何排斥力,通常会发生在相同类型的原子之间。最后,原子层沉积涉及原子层的一个接一个的沉积,以建立复杂的结构。OXFORD V 90取代了传统的硅生长方式,允许生产更复杂的电子元件和结构,对增长率、温度、成分等参数有更大的控制。通过使用VG SEMICON V 90,用户还能够降低与生产纳米图案材料相关的成本,减少生产复杂结构所需的时间。
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