二手 SEMITOOL 260F #151781 待售

SEMITOOL 260F
製造商
SEMITOOL
模型
260F
ID: 151781
晶圆大小: Up to 5"
Spin rinse dryer, up to 5".
SEMITOOL 260F光刻设备是专门为半导体工业设计的最先进的集成自旋涂层/显影剂。它具有可旋转和可伸缩的腔室,可容纳最大直径8英寸的基板。260F带有内置的旋转电动机,具有可调的速度和扭矩,可精确控制旋转涂层过程。该系统利用了对显影剂的时间、温度、速度和喷雾压力的精确控制。温度控制由精确的微微温度Control™调节。SEMITOOL 260F的腔室设计包括一个自动升降机单元,允许多种基板进行自旋涂层,大批量快速高效开发。该机设有风冷排气口,可有效清除所有烟雾。260F光刻工具由内置的直接驱动无刷电动机提供动力,为每个应用程序提供最佳的扭矩和速度。先进的两级起重装置增强了旋转涂层的性能,从而在旋转涂层过程中对阻抗剂的润湿、平整和挤压进行了最佳控制。该模型还具有自动喷雾技术和开发化学品的精确分配功能。对压力进行精确监控,使其能够根据需要升高或降低,以适应基板、抗蚀剂和逐层工艺。SEMITOOL 260F配备了高分辨率的16英寸液晶显示屏和控制器面板,为用户提供了过程状态的视觉反馈。设备具有直观的用户界面和多种内置便利功能,使用方便、直观。260F光致抗蚀剂系统是一种最先进的自旋涂层解决方桉,并在半导体工业中得到发展。其精密和自动化的旋转涂层、温度控制和高度安全的综合解决方桉,使其成为各种光刻工艺的理想选择。先进的两级升降机和自动喷雾技术为自旋涂层和开发作业提供了极致的控制和精度。
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