二手 SEMIX / TOK SG-2 #167184 待售

SEMIX/TOK SG-2是东京大香工业株式会社开发的光刻设备。（TOK）.它是专为成像而设计的高效、精确的系统，用于制造半导体、多氯联苯和MEMS元件。TOK SG-2由两个主要组件：光刻胶和基板.光致抗蚀剂是应用于半导体或PCB基板的光敏液体材料。它包含一个光敏化学浴，它会对可见或紫外线产生反应，并在光线照射下形成图像。光致抗蚀剂材料的化学成分使得其对光的暴露降低或增加其电阻，从而在基板上形成图样。然后将光致抗蚀剂暴露于激光源，如激光辐射、紫外线或X射线，投射到半导体或印刷电路板基板上。通过有选择地将光刻胶材料的不同部分暴露于活化光源，它在基板上创建图样。接着是化学后处理步骤，以进一步细化模式。SEMIX SG-2的设计目的是以最小数量的蚀刻步骤生成精确、高质量的图像。该单元能够以最小数量的重迭步骤以高分辨率产生小的错综复杂的模式。它也是高效率的，因为光刻机只需几分钟即可设置，可以在短时间内产生众多图像。SG-2工具在为各种应用制作图像和图样方面非常精确和高效。它在半导体、印刷电路板和MEMS元件的生产中特别有用。光刻胶资产提供高分辨率印刷品，成本仅为传统蚀刻工艺的一小部分。此外，该工艺的速度和准确性使其非常适合原型设计、生产或小规模应用。