二手 TEL / TOKYO ELECTRON Mark 7 #118737 待售

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ID: 118737
晶圆大小: 8"
优质的: 2010
Track system, 8" Left to right orientation 4 cassette stage, 2 spin Main controller: NEC FC-9801BX computer C/S robot type: Ceramic pincette Main robot type: 2 Finger wafer transfer main robot Indexer: 4 cassette carrier station 25 wafer slots cassette Spin: Stream nozzle thinner dispense Stream nozzle top rinse dispense Spin servo motor Digital vacuum sensors and interlocked for spin unit 2010 vintage As-is, where-is.
TEL/TOKYO ELECTRON MARK 7光抗蚀剂设备是一种针对半导体行业先进应用的综合性光抗蚀剂涂层和开发解决方桉。该系统由四个不同的组成部分组成,每个组成部分共同提供一流的过程控制、精度和精确度。TEL MARK7光刻涂层模块是该单元的第一个组件。由于它有两个独立的涂层头和强大的抽油机,它能够实现精确、可重复和均匀的薄膜涂层。其精确的送力分散辊确保了增强的涂层性能,并允许涂层具有高分子量的抗蚀剂。TEL PMS-003 Intelligent Dispensing Unit进一步优化了标记7涂层模块的性能。该工具的第二个组件是TOKYO ELECTRON Pattern Generating Module。此模块利用了最先进的直接写入光束转向机构,从而可以生成各种阵列形状和大小。该模块还具有允许数据从一个抵抗资产传输到另一个抵抗资产的附加便利性,从而使用户能够轻松地跨多个项目重新创建复杂的模式。TOKYO ELECTRON MARK-7模型的第三个和第四个组件结合起来,提供了自动抵抗开发。TOKYO ELECTRON MARK7 Resist Development/Inspection Unit提供了由集成视觉检查模块形成和扫描的抗蚀剂图样的实时成像。检查模块可用于自动检测抵抗模式缺陷,从而能够立即采取纠正措施。此外,抵抗发展/检查组配备了基于超声波的清洁设备,提高了抵抗模式完成的准确性和清晰度。总体而言,TEL/TOKYO ELECTRON MARK7 Photoresist System是一种强大的工具,可实现卓越的工艺控制、精度和精确度。它的四个组件协同工作,提供无与伦比的光阻涂层和开发解决方桉,使先进的半导体应用成为可能。
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