二手 JIPELEC Jetfirst #9182654 待售

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ID: 9182654
晶圆大小: 4"
Rapid Thermal Processor (RTP), 4" Ramp rate: 70C/sec Maximum allowable temp: 1100C Thermocouple and outer edge, 4" Gases: N2, O2, H2/N2 (10% forming gas) Chamber: Vacuum below 1 Torr.
JIPELEC Jetfirst是一款领先的热处理设备,旨在满足各种应用的需求。该系统提供晶片、基板和器件的快速热处理。该设备为用户提供了先进的技术、极高的精确度和高吞吐量的组合,使本机成为组件快速热处理的理想选择。Jetfirst配备了两个平行的高真空处理室,每个室有五英寸的容量。两个腔室各有一个独立的控制面板和多个参数设置,使用户能够快速准确地调整过程参数,以满足特定的过程要求。另外,两个腔室在每个腔室都有一个专用的烤箱区。JIPELEC Jetfirst还配备了先进的光学工具,配备了先进的光学显微镜,能够为晶圆和基板上的热过程检查和表征提供完整的视野。显微镜还具有增强分辨率和更精确热测量的变焦能力。Jetfirst还具有可调节的大气室,以提高整个晶片和基板的热均匀性。这种特性在表征晶片和基板上的热过程时可以提高精度。JIPELEC Jetfirst包含几个功能,以确保最佳的流程一致性和一致性。该资产拥有获得专利的自动化模型,允许精确控制工艺参数,并提供可靠的操作环境。此外,Jetfirst还具有几种隔热系统,以确保晶片和基板之间的温度分布均匀。JIPELEC Jetfirst为各种应用程序提供了可靠的热处理环境以及易于访问和通用的控制选项。该设备可编程为处理各种任务,如薄膜沉积、快速热退火和半导体器件制造。而且,Jetfirst能够并行运行多个进程,从而提高了系统的整体吞吐量。JIPELEC Jetfirst提供的所有功能使其成为晶片、基板和器件高速热处理的理想选择。它使得热条件的技术过程比传统方法更容易、更快,使这一单元成为各种应用的绝佳选择。
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