二手 AIXTRON AIX 200/4 RF #9195285 待售

AIXTRON AIX 200/4 RF是专门为生产近纳米薄膜而设计的工艺反应器。该反应堆在工业上被广泛用于生产金属、半导体等多种材料，以及薄膜的其他技术。它具有3轴配置，包括一个电极平台、一个单独的基板平面和一个反应室。AIXTRON AIX 200/4 RF中的电极平台具有具有扫频功能的射频源。这允许更高的吞吐量和改进的产品统一性。此外，电极可以很容易地在频率和功率值进行调整，以优化等离子体发射过程。底物平面也是可调节的，允许使用者操纵底物在反应腔中的位置。AIXTRON AIX 200/4 RF反应堆也可以进行编程，以适应多种配置。在最高工作温度为1600 °C的情况下，该腔室可用于溅射沉积、晶片键合、薄膜生长、平面化等过程。此外，该反应堆还配备了用于温度控制的大功率光学高温计。这使用户能够精确、均匀地生长薄膜。AIXTRON AIX 200/4 RF也与一系列操作气体兼容。这其中包括氙气、k、氮气和氧气。因此，反应器可以量身定制，以适应各种需要，允许最佳反应条件和优秀的膜质量。这座反应堆还配有一个外壳，设计有一个特殊的通风系统，以提供优越的温度、压力和电压控制。除了操作上的灵活性外,AIXTRON AIX 200/4 RF的设计易于维护,而且易于监控和故障排除。该反应堆具有先进的数字控制和诊断系统，能够提供有关其性能的实时反馈。此外，该反应堆还具有内置内存系统，该系统可存储多达99个预定的工艺配方，使用户能够快速回忆和恢复所需的工艺。总体而言，AIXTRON AIX 200/4RF反应堆提供了灵活、动力和可靠性的理想组合。凭借其可编程的运行模式和全面的监测和诊断能力，这一反应堆使用户能够在一系列工业应用中以精密和精确的方式成功生产近纳米薄膜。