二手 AIXTRON 2800 G4 HT #9195750 待售
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已售出
ID: 9195750
优质的: 2007
MOCVD System
42"x 2", (6) Satellite
Loaded for each run: 7"x 2" per satellite
Gas lines: 3 NH3, 1 SiH4
LAUDA: RM 25 S/G, RM 6 S/K
EPISON4 Installed
MO Lines:
TMG
TMA
(2) Cp2Mg
(2) Indium
(2) TEG
MO Materials:
TMG
TMA
Mg
In
TEG
SiH4
NH3
Measure the reflectance & temperature: EPITUNE III
Process pump: EBARA A25
WKL230 Chiller included
External scrubber
HORIBA STEC
HITEC
Gas: GaN
2007 vintage.
AIXTRON 2800 G4 HT是为快速高效生产高性能光电元件和器件而设计的反应性沉积工具。它是一种基于4英寸或8英寸桥架结构的紧凑、3轴均匀横向(HT)设备,具有32个crucibles,4个磁场,4个接近线圈。这种精密的沉积系统在所有前体之间提供了极好的均匀性和稳定性,使其成为生产高质量样品的理想工具。AIXTRON 2800G4 HT的先进设计使其非常适合于薄层的沉积。该装置在沉积过程中能够达到极低厚度的薄膜层,并且可以沉积几十纳米(nm)以下的薄层。这种薄膜沉积工艺还能够形成具有强层对层界面特性的单层和多层异质结构。2800 G4 HT使用的先进计算机控制系统能够同时控制多达32个源,并提供高达1300°C的温度,分辨率为0.1K。这有助于确保对沉积过程的高精度控制和准确性。机载软件还包括一系列高级程序,这些程序能够模拟和优化沉积过程,并有助于监控进度和优化配置。该机的设计因包含在反应堆内的磁场而进一步增强。这种自动调节磁场有助于防止任何表面污染,并增强对腔内颗粒分布的控制。通过提供均匀加热和冷却基板,邻近线圈还减少了总沉积时间,并最大程度地提高了基板的吞吐量。总体而言,2800G4 HT是一种通用的电阻沉积工具,能够提供高精度的光电元件和器件。AIXTRON 2800 G4HT结合先进的设计特点、计算机控制和出色的层对层均匀性,是高效、均匀沉积工艺的理想工具。
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