二手 AIXTRON Crius 31x2" #9186422 待售

AIXTRON Crius 31x2是一种外延沉积设备，设计用于生长高达31x2 （62）2英寸晶圆，可用于金属有机化学气相沉积（MOCVD）或原子层沉积（ALD）。该系统装有两个独立控制的反应堆，允许两种不同材料同时生长。AIXTRON Crius 31x2的腔室容积为1.1立方米，真空泵在5-450°C的温度范围内降至0.0025毫巴，最大压力低至1毫巴。它还包括一个先进的晶片处理单元，晶片到晶片和反应堆内部的转移，在批量转移期间既满足处理要求，也满足污染要求。晶圆处理机兼容各种晶圆尺寸，以及小片晶圆低至100 µm。AIXTRON Crius 31x2工具专为工艺灵活性而设计，对任一反应堆的压力、温度、时间、反应物气体和蒸汽供应进行独立控制。压力保持在0.1毫巴精度，压力范围为0.1至100毫巴，气流控制在0.001 sccm精度。AIXTRON Crius 31x2还配备了先进的机械臂进行样品处理。臂可以在反应堆之间移动晶片，也可用于从基板肘部装卸晶片，或从卡带或船载机装卸。机械臂可以将基板移动到进气歧管或卡盘传递点，也可以在反应堆内提供多个晶圆传递的灵活性。为每个反应堆提供排气阀，允许用户利用不同的排气资产要求。AIXTRON Crius 31x2是一款用途极为广泛的型号,能够为各种应用程序配置文件提供最高质量的外延层。任一反应堆的压力、温度、时间、反应物气体和蒸汽供应的独立控制，结合先进的机械臂和晶圆处理设备，使这种外延沉积系统成为先进设备生产的理想选择。