二手 AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9052241 待售
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ID: 9052241
CVD System, 8"
Process: SIO
Process chamber:
Chamber A, B: SIO
Chamber D: ETCH
Chamber version:
Chamber A & B: Standard VAT ISO valve
Chamber D: Standard
RF Generator type:
Chamber A & B: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
AI
AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Manometer type:
Chamber A & B: MKS 122B 11441
Chamber D: MKS 127AA
RF Matching box type:
Chamber A & B: 0010-09750D DR
Chamber D: 0010-09416
Turbo pump type:
Chamber D: LEYBOLD NT340M
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A & B: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A: P/N 0015-09091
Chamber B: P/N 0015-09573
Chamber C: P/N 0015-70060
Gas panel type: (28) Gases
Signal tower
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / O2 / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model
B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000是一种物理气相沉积（PVD）反应器，旨在协助制造微电子器件。它旨在将精确数量的材料沉积到很小的足迹上，使其成为半导体器件制造中的一个有价值的工具。AMAT P-5000使得铜、铝、钨、金和其他材料能够沉积在硅和砷化的基板上。应用材料P 5000利用电弧蒸发或阴极电弧蒸发沉积材料.这个过程涉及高能阳极发射电弧放电，将材料从阳极表面移出，使其在真空中蒸发。然后，这种蒸气被引导到底物上，形成一个非常均匀的沉积物。该设备设计为适应不同基板的不同要求，并不断监控，以确保均匀的沉积速率。P-5000最多可容纳四个阴极目标，并且可以在一个腔室中沉积多层材料。它还利用了一个"侧面多"特征，允许沉积在基板的两侧，不需要第二个腔室或额外的工具。该系统还包括一个原位5轴往复器，可用于旋转基板，使所有方向均匀沉积。P 5000装有负载锁定单元，使输出速率高达每小时7,000晶圆。它还能够容纳直径从25毫米到300毫米不等的基板。专有的自动晶片跟踪器可确保即使是形状不规则的基板也能沉积。APPLICED MATERIALS P5000支持多种传感器/监控/可编程逻辑控制（PLC）方法,这些方法保持对过程参数的监控,以防止高效生产出现问题。一些最流行的过程控制技术是光发射光谱（OES）、电化学势（ECP）和温度剖析。这台机器还允许远程访问和监视在线流程,这有助于减少停机时间和提高生产率。最后，AMAT/APPLIED MATerials P 5000是一种高度先进和可靠的PVD反应器，旨在协助材料沉积在微电子基板上。其精度、速度和多种过程控制方法使其成为半导体器件制造的有用工具。
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