二手 NOVELLUS CONCEPT One #150904 待售

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製造商
NOVELLUS
模型
CONCEPT One
ID: 150904
晶圆大小: 8"
优质的: 1991
CVD System, 8" Process types: Undoped silane-base oxide Silicon nitride (2) Stages Transfer system: One arm robot Wafer on paddle sensor Cooling stage Software version: 4.431 RF Generator: ENI OEM 50, 13.56 MHz ENI PL-2HF, 400 kHz Match network: TRAZAR AMU2B-1 Match box Pressure control: TYLAN MDVHX-100B heated throttle valve with temperature controller TYLAN Throttle valve controller Independent gas cabinet Gas configuration: Mass flow controller: UNIT Gas types: N2, SiH4, C2F6, O2, NH3 Remote power AC box Currently warehoused 1991 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One是一种先进的、先进的原子层状沉积(ALD)反应器,专为高批量生产高均匀薄膜而设计。反应堆是先进电子产品商业化制造的有利平台。它具有高通量腔室和大基板支架。这样就可以生产各种半导体材料和设备,包括内存设备、弹性体和传感器。ALD是一种先进的薄膜沉积工艺,用于制造电子元件。ALD工艺用于将原子层材料(一次一层)沉积到基材的地形上。这种控制水平允许在大面积上进行极其精确和均匀的薄膜沉积。ALD非常适合生产薄膜晶体管、内存设备、发光器和微机械执行器。NOVELLUS CONCEPT ONE是一个定制设计的ALD反应堆。它每小时可处理多达100个晶圆,能够应用特定的薄膜配方。它提供了一致的晶片到晶片厚度控制,高达0.2nm,以及非易失性内存,以便于过程开发。概念一由四个主要部件组成:反应堆头、反应堆室、计算机控制阀和运输系统。反应器头装有阴极和阳极,用于沉积和控制电流流动。反应堆室是底物所在的位置,包含气体输送系统,该系统将反应物注入该室。阀门控制气体流动,并由计算机监测和调整。最后,运输系统将底物通过反应堆进行超均匀速度和温度控制。CONCEPT ONE能够沉积多种材料,包括金属、氧化物、氮化物,以及广泛的半导体材料如光伏材料、CIGS、CIS等先进半导体材料。这使得能够生产各种先进的电子产品,包括传感器和半导体器件。最后,NOVELLUS CONCEPT One是一种先进的ALD反应器,设计用于高批量生产的超薄膜和均匀膜。它的特点包括高通量、一致的晶片对晶片厚度控制,以及处理多种材料的能力。这使得各种先进电子元件的商业制造成为可能。
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