二手 ULVAC Ceraus ZX-1000 #9025887 待售

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製造商
ULVAC
模型
Ceraus ZX-1000
ID: 9025887
优质的: 2000
Metal PVD system, 8" Configured for: Al, Ti Not configured for: Mo (4) Process chambers: PVD Warehoused 2000 vintage.
ULVAC Ceraus ZX-1000是一种高性能溅射设备,能够在几乎任何基板上产生精确且可重复的薄层材料。该系统具有四个源(三个直流磁控管和一个射频偏置),非常适合创建各种薄膜材料特性,并在大面积上提供出色的均匀性。这使得它对于弹道研究、复合半导体沉积和薄膜光学涂层特别有用。ULVAC CERAUS ZX 1000具有一个全封闭的腔室,旨在保持受控环境,以实现最大的溅射性能和可重复性。它的主要成分包括四个可配置的离子源,两组磁控管,一个射频振荡器,以及能够溅射各种化学成分的靶子。它还提供其他功能,例如用于控制基板温度、压力、电压、气流和基板运动的自动化软件界面。另外,它可以适应使用各种气体控制系统和高性能控制系统,如Qtron-X。Ceraus ZX-1000的电源可靠性很高,能够实现突出的材料特性和薄层沉积。它的高级显示也使得监控溅射过程容易得多。它提供了出色的溅射产量和广泛的操作参数,可以很容易地调整,以实现所需的薄层特性。该装置设计用于处理各种底物,从晶体和薄膜到聚合物和金属。CERAUS ZX 1000还具有先进的旋转磁控管,它提供比传统磁控管溅射系统更高的溅射产量和均匀性。此外,该机还提供了一种真空抽油机,可用于降低精确薄膜沉积所需的压力水平。这样可以更好地控制沉积速度和均匀性,同时不需要单独的真空资产。总体而言,ULVAC Ceraus ZX-1000是一种出色的溅射模型,能够在几乎任何基板上产生可重复、准确和精确的薄层。其先进的显示和易于使用的软件界面使其成为任何溅射应用程序的易于使用的工具。其高产率、快速溅射性能,以及与多种基材配合使用的能力,使其成为各种薄膜产品线和研究应用的理想选择。
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