二手 AJA ATC Orion 5 UHV #9049698 待售
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已售出
ID: 9049698
优质的: 2006
Sputter coater
Currently configured for manual operation, fully automatic capable
Substrate bias and rotation
(3) Independent sputter guns
(2) DC Power supplies, 500W
RF Power supply, 300W
Substrate size:
< 5.75" diameter (sputter-up) with z-axis shift (2")
Rotation to 20 rpm
Heating up to 800ºC with RF bias capability to 50 W RF
Sputter guns:
(3) 2" O.D. Targets
With integrated shutters for RF or DC (metallics/dielectrics) sputtering
Confocal, sputter-up arrangement
Capable of being upgraded to (5) cathodes
Power supplies:
(2) ADVANCED ENERGY 500 W DC supplies
1300 W Seren RF generator with manual impedance match and selector switch
Substrate heating:
PID Temperature programmable controller
(2) 1000 W Quartz lamps for heating inside water-cooled reflector box
Vacuum generation:
PFEIFFER 500 L/sec turbo pump
With magnetic bearing on vac side and ceramic bearing on motor side
Backed by ADIXEN ACP15 dry rotary lobe pump: Oil-free deposition system
Sputtered: metals and metal oxides:
Copper
Precious metals
Nickel
Iron
Vanadium
Molybdenum
Aluminum
Alumina
Carbon / Graphite
Currently de-installed and stored in a cleanroom
2006 vintage.
AJA ATC Orion 5 UHV是一种用于加工材料的溅射设备，精度和精度都很高。这个先进的系统利用了强大的高真空单元，能够维持6.5x10-7 Torr的最大真空压力。它具有5目标溅射室，具有8接地的加热阳极，允许不同的溅射配置，包括高功率和低功率溅射操作。该机还包括模块化设计，目标到基板距离可调，以及自动化的高速率等离子体清洗功能。除了溅射的进步，ATC Orion 5特高压工具还具有基板的温度控制功能。该资产支持高达500 °C的主动加热范围，允许对基板表面进行精确的温度控制。由于热处理可以极大地影响金属化部件的性能，因此这一特性可以更好地控制膜的形态和组成。AJA ATC Orion 5 UHV提供精确的运动控制，能够在不污染目标表面的情况下实现精确的涂层沉积。运动控制允许灵活编程，线性和螺旋扫描模式，以确保均匀膜沉积速率。它还具有振荡扫描模型，通过在X-Y平面中振荡目标来精确扫描目标，以减少目标相互扩散的影响。最后，ATC Orion 5 UHV配备了先进的自动化设备，以确保在溅射过程参数内的准确性和可重复性。该系统包括计算机控制操作、多程序排序功能以及易于操作的用户友好图形编程工具。它还跟踪溅射参数和参数，以确保涂层结果的可重复性和可重复性。总体而言，AJA ATC Orion 5 UHV是一种强大而精确的溅射装置，非常适合进行薄膜沉积过程。其主动加热范围和精确的运动控制为材料的沉积提供了更大的控制。它的自动化功能最大限度地提高了效率,减少了加工材料所需的时间。有了这些特点，ATC Orion 5特高压是许多薄膜应用的完美解决方桉。
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