二手 PERKIN ELMER 4400 #48874 待售

PERKIN ELMER 4400是一款高端溅射设备，旨在提供最先进的性能和可靠性。这套通用系统非常适合各种应用，包括半导体器件制造、高级封装、大面积基板的功能化和纳米技术。4400能够将各种金属、合金和氧化物溅射到各种基材上。PERKIN ELMER 4400的心脏是一个可旋转的5目标溅射室，由两个电子束源、两个平面磁控管和一个可旋转的桨组成。单独的目标控制系统提供了设备制造所需的精确控制和高度可重复的结果。电子束系统具有精确的能量/功率控制和扫描能力，大大扩展了设备的功能。由Orion控制的阴影掩模组件可在单个运行中精确沉积多层,并提供FMDS电子显微镜用于精确的底物尺寸控制。4400's in-set process chamber容纳各种基材尺寸达12英寸。机械设计具有五个双活塞驱动的直线运动级，以确保对溅射室中基板位置的精确控制。一个升压供应的高真空泵集成到机器中，能够快速疏散并保持5.0 x 10-7 Torr的低基压。PERKIN ELMER 4400通过闭环PID温度控制器对基板进行精确的温度控制。利用一系列温度探针和高温计，控制器可以将设定温度保持在0.15 °C以内。冷却是通过环绕基板的闭环水套工具实现的。4400还提供了自动化和控制的多功能软件包。资产配有3D图形用户界面（GUI），用于监控沉积过程，提供压力、气流、温度、电压和电流的实时数据。该模型采用模块化设计，具有复杂的沉积序列，可实现可相互锁定的工艺步骤。所有这些功能结合在一起，使PERKIN ELMER 4400成为研发和生产应用的绝佳选择。其卓越的控制和可重复性，加上坚固的设计，使其成为要求苛刻的溅射任务的最佳选择。