二手 SSEC 1756 #9018957 待售

SSEC 1756
ID: 9018957
Wafer / mask rinse cleaner 220 V, 15 A, 1 Phase, 50/60 Hz.
SSEC 1756是一种晶圆和掩模洗涤器,设计用于半导体制造设施。它是专门为安全地从晶圆和光掩模表面清除有害颗粒和污染物而设计的。洗涤器的设计目的是尽量减少关键光刻作业过程中屈服损失和污染的风险。1756是一种自动化设备,具有高真空发电机、手动控制单元和可选的洗涤器头。定制设计的洗涤头可以容纳平面和轮廓的晶片和光掩模,并且可以根据工艺参数和基板形状量身定制。洗涤头采用单通或双通系统,具有可调的洗涤压力和压缩,可实现最佳控制和柔韧性。洗涤器被设计为自动调整到晶圆或光掩模表面上的确切位置和位置。这种定位有助于在不损害基板完整性的情况下清除不需要的颗粒。此外,洗涤器头还具有电子晶片对准装置,以减少洗涤器对准错误.洗涤动作可以根据基材和工艺的具体要求进行定制。洗涤介质由柔软多孔的材料构成,旨在消除残留物的积聚。洗涤作用是静电驱动的,产生较低的摩擦,更一致的过程。可选的串联粒子监测机提供了有关工艺室内粒子水平的准确数据。该数据可用于调整洗涤过程,以进一步提高洗涤过程的性能和准确性。洗涤器的设计也尽可能安全和方便用户。所有组件都经过人体工程学设计,以减少疲劳,并且洗涤器的设计提供了延长的使用寿命和随时安全的操作。这些控件也简单明了,使各种用户都可以使用。总体而言,SSEC 1756旨在提供最高级别的洗涤性能和粒子检测,同时优化安全性和用户友好操作。其先进的特性和清洁平坦和轮廓基板的能力为半导体制造设施提供了一个令人难以置信的宝贵工具。
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