二手 ASML PAS 2500 / 40 #9198547 待售

ASML PAS 2500/40是一种先进的光刻设备，用于半导体制造工艺。该系统以深紫外光刻为基础，为130纳米芯片制造工艺设计，是低功耗、高性能集成电路的理想选择。该单元使用单个大面积扫描仪在晶片上暴露一个光阻（PR）层，单步产生微结构。步进器的成像光学器件包括对准机、高数值光圈（NA）镜头、高灵敏度照明工具和双面成像镜头。这种组合可以精确控制图像的放置和均匀性。此外,资产还具有独特的迭加识别模型（ORS）,可实现高对齐精度,而无需手动裁剪或扫描。ASML PAS 2500/40的核心是利用三轴级以亚纳米级的增量移动,从而实现了光刻对准的最高精度。这项最先进的技术结合了三个线性电动机级-X、Y和Theta（角）-来控制晶圆的精确对准,从而形成精确对齐的模具模式。PAS 2500/40还配备了一个综合大气控制（AC）设备，在步进室内保持精确和清洁的环境。这种受控环境有助于提高成像性能、延长模具寿命并提高设备的均匀性和吞吐量。该系统还提供精确的光学覆盖、闭环对准和过程控制能力，以及卓越的场均匀性。PAS 2500/40是一种先进的、用户友好的光刻设备,设计用于130 nm芯片制造过程。该机提供卓越的成像性能、精确的光学迭加能力、延长的模具寿命和高精度的运动控制。结合了高NA镜头、高灵敏度照明工具和大气控制资产等先进技术，ASML PAS 2500/40提供了无与伦比的精度和精确度。