二手 NIKON NSR 2005 i8A #9138101 待售
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已售出
ID: 9138101
Stepper,
PC model
NEST modify : MSC2
Software
Version : 2.4D
Reticle
(5) Size
Material : Quartz
Thickness : 0.09"
Changer type : Multi
Wafer
(6) Size
Standard : JEIDA
Orientation flat / Notch : OF
Optical system
Magnification : ( 1/5 )×
Field size : (20.0×20.4mm)
NA : ( 0.5 )~( )
Wavelength : i Line
Illumination system
Illuminant : Mercury lamp
Exposure time control : integrating Exposure control
Masking function
Wafer loader
Type : Type Ⅰ
Reticle alignment
Alignment light : Other(HeNe Laser, halogen lamp )
Type : CCD imaging, image treatment
XY stage
Type : Linear Motor Drive､triaxial interferometer
Stroke : X( 200mm )~( )/Y( 200mm )~( )
Wafer leveling
Type : Biaxial linear motor drive
TV pre-alignment
Type : Image treatment
Reticle feeder
(14 ) Sheet reticle storage
Reticle particle inspection
Type : Laser beam
Unit name : PD5(Broken)
Chamber
Cooling type (air cooling) on T/C : S85L
T/C Air cooling type : Cooling unit/inner Heater type
T/C liquid cooling type : Cooling unit/inner Heater type
T/C liquid-temp control unit : Stage
Camera
Type : CCD
FIA
LSA
Inline : Stand alone
1992 vintage.
NIKON NSR 2005 i8A是一种深紫外光刻设备，设计用于高分辨率生产光掩模和半导体芯片。NIKON NSR 2005I8A采用大场平场、8英寸交替阶梯式还原物镜,旨在支持100 nm以下阵列的制造。NSR-2005I8A的可调光圈可达32微米，并采用自动对焦系统进行精细对准，能够产生最精密的光刻工艺。NIKON NSR-2005 I8A Wafer Stepper可以加速大体积光刻工艺,提供高达4米/秒的最高写入速度。步进器单元支持高达400nm的薄抗蚀性涂层,使各种否则难以实现低于100 nm的工艺。此外，该机还具有多场多轴对齐机，无需昂贵的掩模对齐。步进器工具辅以专有的高精度V形级与能精确测量级的运动的机械编码器。自动阶段扫描功能允许在每次步进操作之前使用存储在计算机中的参数来对齐多个字段。晶圆步进器还配有高分辨率的Z定位器，上面配有光学加热器，可以精确控制晶圆温度。NSR-2005 I8A采用大场平场、浸油物镜，特别适合大面积抗蚀剂，满足半导体工艺的严密精度要求。油浸设计也使机器不受振动问题的影响，也可用于多层抗蚀光刻工艺。NIKON NSR-2005I8A Wafer Stepper还提供多种创新技术。它支持防反射涂层、高级标线管理功能、全自动操作以及高效生产的高级工艺集成。它还有一系列专门的光学选项作为后盾，包括一系列焦距和部分一致性变化，使用户能够以一致和可重复的结果制作最佳光刻工艺。
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