二手 KOKUSAI DD-803V #9057581 待售

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KOKUSAI DD-803V
已售出
製造商
KOKUSAI
模型
DD-803V
ID: 9057581
Furnaces LP Nitride.
KOKUSAI DD-803V是专门为晶圆掺杂和接触处理而设计的高度先进的扩散炉及配件。它提供高达1150°C的均匀加热,并具有广泛的功能,使其成为非常理想的产品。该炉采用单区低压扩散设备,热区大小20.5L,内部涂有石英。其设备温度范围为~ Ambient至1150 °C,温度均匀度为+/-10°C。它的均匀加热使其适合各种应用,如晶圆掺杂和接触处理。此外,该炉还配有一个附加的CVD反应器,该反应器可有效地与基于扩散的过程配合使用。这样做是为了提高热均匀性,加速反应速率。它还提供了更高的生产效率和处理过程的效率。反应堆内衬石英,具有优异的耐热性,易于安装组装。该炉还配有各种配件,包括控制器、自动晶片装载系统以及输送机和晶片预热装置。控制器有一个实时的机器参数显示,它允许用户在任何参数开始偏离时快速采取行动,并确保晶圆被精确处理。自动晶片加载工具是一种内置设备,处理原始晶片并保持其整洁。输送机和晶片预热设备的设计是为了提高效率和提供更好的控制过程。总之,KOKUSAI DD-803-V是一种先进可靠的扩散炉.凭借其广泛的特点,精确加热至1150 °C,以及高效的配件,适合多种应用。CVD反应堆、控制器和自动晶片加载系统等附加组件使其在价格、性能和可靠性方面都是绝佳的选择。
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