二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 808S #9058014 待售

TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 808S扩散炉是一种先进、高规格的薄膜沉积工具。热源呈圆周和垂直排列，使薄膜的热分布均匀，沉积效率更高。单炉提供宽广的温度范围，从100 °C到1100 °C。精确的温度控制使得这种炉适合许多苛刻的薄膜应用，例如先进的半导体和光伏。该炉的设计也符合严格的安全标准，当检测到温度不均匀等潜在维护问题时，会发出警报提醒技术人员。此外，住房的设计旨在保护人员免受任何潜在的危险排放，陶瓷带状加热元件的设计旨在优化能源效率。TEL Alpha 808S扩散炉设计有一个可移动的工艺室，使其能够在不需要移动整个单元的麻烦的情况下进行维修。电介质线圈提供均匀的加热以获得最佳的处理效果。腔室具有水平提升机构，确保精确对准，并提供处理小型和大型基板的灵活性。TOKYO ELECTRON ALPHA 808S还包括一系列附加配件。例如,可以添加自动基板处理系统,从而实现工件的高效和准确传输。冷却气体系统有助于在冷却过程中保持均匀性，而石墨热电偶支架可提高较大基板的温度均匀性。流程可追踪性也很容易，集成数据记录系统监控整个制作过程。总体而言，Alpha 808S扩散炉以其先进的加热技术、精确的温度控制以及附加的附件，是薄膜沉积的有力工具。其高效的工艺、卓越的均匀性和更强的安全性，使其成为大批量生产先进半导体的理想选择。