二手 TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE A8SE-ZAR #115117 待售
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ID: 115117
晶圆大小: 8"
优质的: 2000
Vertical Anneal Furnace, 8"
Process : LT Forming Gas (H2 Anneal - Reflow -Beol)
Standalone Furnace with Tunnel Layout and Non Shared Gas Cabinet
2 Loader Ports
NON-SMIF
Low Temp Heating Element
5 Zone
Heater Type : VMM-40-104
Waves Controller
AERA MFC's
N2 Loadlocks
No Boat Rotation
Wafer Capacity - 170 Total, 150 for Production run
208VAC
50/60hz
3 Phase Wiring
2000 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON ALPHA 8SE A8SE-ZAR是为多个晶圆工艺应用而设计的扩散炉及附件。用于在多个基板上沉积薄层。该A8SE-ZAR旨在最大限度地提高吞吐量,提供出色的均匀性,并能够对薄膜厚度和沉积速率进行高精度控制。该A8SE-ZAR基于计算机集成的多晶圆平台,具有统一的加热机制。它还配备了多室自动化系统,使其能够在单个流程周期中支持多个流程步骤。它能够进行氧化物沉积、扩散、氧化、氮化、金属沉积、相互扩散、蚀刻和制图等过程。该A8SE-ZAR采用先进的CCD摄像头设计,可实现晶片间自动对准和更高精度。它还包括一个窗口CF过滤器,它减少了颗粒物污染的发生率。这个滤波器更进一步阻止粒子进入扩散室。这有助于改进与扩展运行相比的流程可重复性。A8SE-ZAR的系统内置了流程控制功能。这包括整个腔室的温度控制,以及氧化和氮化参数。它还有一个专有的扩散配方生成算法,将过程不确定性最小化,产生更统一的结果。该A8SE-ZAR还内置了Endura离线控制功能,允许控制多个配方而不会中断流程。它还配备了先进的射频发生器,减少了边缘效应损失,导致了均匀性,提高了工艺产量。TEL Alpha 8SE A8SE-ZAR是一种可靠的扩散炉和附件,可让客户以经济高效的方式获得高质量的结果。它结合了高精度的控制和自动化系统,使控制和可重复的过程,具有统一和过程的准确性。它还包括CCD摄像头、滤波器和射频发生器等控制功能,这些都有助于提高过程的可重复性和产量。这一先进集成的晶圆加工平台非常适合现代半导体工业的需求。
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