二手 TEL / TOKYO ELECTRON Formula #9090494 待售

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TEL / TOKYO ELECTRON Formula
已售出
ID: 9090494
优质的: 2008
Furnace 2008 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Formula是一种在半导体器件制造过程中用于蚀刻半导体晶片的蚀刻器/灰化器。它是一种物理气相沉积(PVD)蚀刻器,使用反应性离子蚀刻(RIE)从目标基板上去除材料。它能够蚀刻高长宽比特征,而且轮廓范围非常狭窄。通常,它用于蚀刻地沟、凹陷的接触通风孔等特征,这些特征可用于MEMS和3D集成电路的生产。TEL公式蚀刻器使用感应耦合等离子体(ICP)源产生蚀刻所必需的反应性物质。ICP源是先进的Class-IIC清洁室设备的一部分,该设备配备了三重Gas™反应堆和高性能真空系统。这样可以将表面清洁和蚀刻到极低水平的杂质,而不会污染表面。TOKYO ELECTRON Formula蚀刻器利用高频射频功率在等离子体过程腔中产生均匀的等离子体。该等离子体随后被用于维持高离子通量并定向到底物。这使得即使是非常薄的特征的蚀刻具有非常低的特征大小和长宽比的高离子产率。配方蚀刻器还配备了两个额外的蚀刻物种来源。这其中包括了氙气和氧气ICP源。氙ICP用于通过小于70 µm的孔和沟槽开口,以及对称带状线和对齐层的孔进行蚀刻。氧ICP由于具有反应性的离子蚀刻过程,因此能够以非常低的长宽比蚀刻保形结构。在工艺控制方面,TEL/TOKYO ELECTRON Formula蚀刻器提供了一系列选项。这包括一个带有嵌入式计算机、高速数据记录器和热监测机的精密控制单元。软件包包括针对不同应用程序的各种预设和用户定义的蚀刻配方。TEL Formula是一种先进的蚀刻器,能够蚀刻具有高长宽比和重复性的微结构。其集成组件允许对各种应用进行非常高精度的蚀刻,同时消除蚀刻过程中表面的污染。这使得它成为各种设备制造过程的理想选择。
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