二手 ALCATEL / ADIXEN / PFEIFFER AMS 4200 #9225142 待售

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ID: 9225142
晶圆大小: 6"
优质的: 2007
Deep etcher, 6" Process: BOSCH (2) Chamber etch systems With BROOKS Handler Up to (4) chambers Load / Unload stations Scrubber (3) Computer consoles (2) LN2 Tanks Process module: SE Silicon etch Gases: CF4, O2, CHF3, He, Ar, N2 Process module: (2) RGV Dielectric etchers Gases: SF6, O2 (20 SCCM), O2 (1000 SCCM) High generated plasma density: >10^11 ions/cm³ Very high silicon etch rates: >30 μm/min Steep and vertical side walls as well as high selectivity MEMS and semiconductor device fabrication: Silicon (SI) Silicon on insulator (SOI) Silicon dioxide (SiO2) Wide range of substrate types Wafer sizes of 4", 5", 6" or 8" diameter with quick wafer size Cluster tool modules: Up to (4) process modules Control module per process module Transfer module Energy Dispatching Module (EDM) Graphic User Interface module (GUI) (2) End point detection (EPD) systems (2) Chillers Oxide chamber has an ESC chuck Silicon chamber has a liquid N2 cooling and mechanical clamping 2007 vintage.
ALCATEL/ADIXEN/PFEIFFER AMS 4200是一种等离子体蚀刻器/asher设备,设计用于复杂的半导体器件制造应用。它非常适合于精细和高度精确的蚀刻和灰化操作,从而能够生产高性能的半导体元件,并提供极其精细的细节。ADIXEN AMS 4200由矢量化媒体传输系统驱动,可提供控制级别的准确性和统一性。这确保了在整个蚀刻/灰化过程中的高精度,因为重迭的间距和运行大小是一致的。由于其可调节的盒式磁带,它还能够处理多个晶圆尺寸和基板。机器使用多个单源电源提供必要的蚀刻速率和均匀性级别。所有电源都安装在顶部,可供操作员使用和维护。该装置在使用受控、清洁的等离子体时也能抵抗污染和工艺条件的变化。凭借其用户友好的设计和专用的功能键,操作员可以以最少的经验快速可靠地生产。ALCATEL AMS 4200具有多种安全功能,可确保最高级别的流程安全性和可靠性。其中包括检测晶圆温度变化的石英传感器,以及保护晶圆免受突然移动的安全盖。使用诊断系统实时监控蚀刻/灰化过程,以防止其停滞或受到环境条件突然变化的影响。该机器包括集成软件,能够精确模拟蚀刻/灰化工艺参数。此软件允许操作员快速、轻松地、精确地更改参数,以利用该工具出色的可重复性。最后,由于其模块化的结构和方便用户的设计,整个资产的安装和维护非常方便。该模型高效的机架安装设计简化了安装和重新定位。随附的工具套件和制造商批准的部件维护速度快,方便。总之,PFEIFFER AMS 4200是一种先进、精确的蚀刻器/灰烬设备,非常适合创建精确、复杂的晶圆蚀刻和灰烬。该系统功能简单,效果可靠,适用于复杂的半导体器件制造应用。
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