二手 CANON PLA 501 #293621683 待售

CANON PLA 501是一种高度精密的掩模对齐器，用于半导体制造。它在半导体工业中被广泛用于光刻掩模在晶片上的高精度对准。该设备适合生产需要精确模版印刷、细线光刻和高分辨率图样的IC。佳能PLA-501实现了半导体器件的高质量制造，提供了高精度和可重复性。它旨在确保光刻面罩和薄膜元件对准的最佳精度和可靠性。该系统采用自动对准技术，可以精确、可重复地对准光刻掩模板和晶片。该装置配有一个InGaAs监视器,可检测最大分辨率为107 nm的掩模板边缘。该传感器即使在最复杂的设计中也能检测到光刻胶图样的边缘。此外,该机的设计保证了高分辨率,最大对准精度为5nm。该刀具还包含一个Z级机构，该机构确保掩模板的薄膜层和被对齐的晶圆完全平行对齐，从而提供更精确的对齐过程。PLA 501还能够对超高分辨率结构进行阵列化。它配备了步进电动机，提供激光的连续发射，允许在遮罩板上形成和图桉化的精细结构。该资产与多种掩模类型兼容，最多可处理150个掩模板。此外，该模型允许创建多达200 000种对齐模式，从而提供了一个高效和可靠的过程。总体而言，PLA-501广泛应用于半导体制造，提供了可靠高效的工艺。掩模对齐器非常先进，提供精确、可重复的光刻掩模板和晶片对齐。该设备还能够对超高分辨率结构进行阵列设计，为半导体元件提供灵活性和准确性。